[发明专利]一种对闪存单元收缩验证的方法有效
申请号: | 201611110711.X | 申请日: | 2016-12-06 |
公开(公告)号: | CN106601644B | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | 王礼维;丁枝秀;喻旭芳;骆怡 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G06F17/50 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 闪存 单元 收缩 验证 方法 | ||
1.一种对闪存单元收缩验证的方法,应用于芯片版图中对闪存单元的收缩处理,所述芯片版图包括多个原闪存单元组成的多个原存储阵列,其特征在于,
包括以下步骤:
步骤S1、设置一收缩处理的新闪存单元,并将所述新闪存单元替换所述芯片版图上的所述原闪存单元,以形成多个新存储阵列;
步骤S2、提供一组预定器件对每个所述原存储阵列与对应的每个所述新存储阵列之间形成的预定面积差进行填充,以形成一预定规格芯片版图;
其中,所述预定器件为虚拟器件;
步骤S3、根据所述预定规格芯片版图制备对应的芯片;
步骤S4、对上述对应的芯片进行整体测试验证。
2.根据权利要求1所述的对闪存单元收缩验证的方法,其特征在于,所述虚拟器件分别填充于所述新存储阵列的四周。
3.根据权利要求1所述的对闪存单元收缩验证的方法,其特征在于,每个所述新存储阵列的宽度边缘均设置有源端间隔;
所述新存储阵列宽度边缘的所述虚拟器件设置于相邻的所述源端间隔之间。
4.根据权利要求1所述的对闪存单元收缩验证的方法,其特征在于,每个所述新存储阵列的长度边缘均设置有与长度边相等的所述虚拟器件。
5.根据权利要求4所述的对闪存单元收缩验证的方法,其特征在于,每上下相邻的所述新存储阵列之间设置有源端扩散层。
6.根据权利要求5所述的对闪存单元收缩验证的方法,其特征在于,所述源端扩散层的宽度可调节设置。
7.根据权利要求1所述的对闪存单元收缩验证的方法,其特征在于,每左右相邻的所述新存储阵列之间设置有字线间隔层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造