[发明专利]一种覆铜陶瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种覆铜陶瓷，其特征在于，包括有氮化铝陶瓷、改性层和铜层；

所述氮化铝陶瓷的表面形成有氧化铝膜；

所述改性层中包括改性颗粒，所述改性颗粒包括玻璃粉，所述改性层位于所述氧化铝膜和铜层之间；

所述改性层部分渗入所述氧化铝膜内形成莫来石相。

2.根据权利要求1所述的覆铜陶瓷，其特征在于，所述氮化铝陶瓷为片状材料，厚度为0.3～2mm。

3.根据权利要求1所述的覆铜陶瓷，其特征在于，所述玻璃粉包括硅氧化物和硅酸盐中的一种或多种。

4.根据权利要求1或3所述的覆铜陶瓷，其特征在于，所述改性颗粒还包括氧化铝，所述玻璃粉与氧化铝的重量组分比为：30～70：1～60。

5.根据权利要求1或3所述的覆铜陶瓷，其特征在于，所述改性颗粒还包括氧化亚铜和铜粉，所述玻璃粉、氧化亚铜和铜粉的重量组分比为：30～70：1～30：1～30。

6.根据权利要求1或3所述的覆铜陶瓷，其特征在于，所述改性颗粒还包括氧化锆和二氧化锰，所述玻璃粉、氧化锆和二氧化锰的重量组分比为：30～70：1～20：1～20。

7.根据权利要求1所述的覆铜陶瓷，其特征在于，所述铜层的厚度为0.1mm～1mm。

8.根据权利要求1所述的覆铜陶瓷，其特征在于，所述铜层与所述改性层接触的一面上形成有氧化亚铜膜，所述改性层部分渗入所述氧化亚铜膜中。

9.如权利要求1～8中任意一项所述覆铜陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下操作步骤：

在氮化铝陶瓷表面形成氧化铝膜；

在所述氧化铝膜表面形成改性层；其中，所述改性层中包括改性颗粒，所述改性颗粒包括玻璃粉；

在所述改性层表面形成铜层，通过热处理使铜层、改性层与氮化铝陶瓷结合一体。

10.根据权利要求9所述的覆铜陶瓷制备方法，其特征在于，通过热氧化工艺在所述氮化铝陶瓷的表面形成氧化铝膜。

11.根据权利要求10所述的覆铜陶瓷制备方法，其特征在于，所述热氧化工艺具体包括：将氮化铝陶瓷放置于氧分压为0.01atm～0.5atm的流动气氛中，以2℃/min～20℃/min的升温速率升温至800℃～1300℃，保温10min～300min，然后降温至室温。

12.根据权利要求9所述的覆铜陶瓷制备方法，其特征在于，在所述氧化铝膜表面形成改性层包括：

在氧化铝膜上覆盖包含有所述改性颗粒的改性浆料，烘烤使改性浆料干燥，在所述氧化铝膜表面形成改性层。

13.根据权利要求9所述的覆铜陶瓷制备方法，其特征在于，“在所述氧化铝膜表面形成改性层”包括：

在氧化铝膜上覆盖包含有所述改性颗粒的改性浆料，烘烤使改性浆料干燥；

将上述处理后的氮化铝陶瓷置于氧分压为0.001atm～0.5atm的流动气氛环境中，以2℃/min～20℃/min的升温速率升温至1000℃～1500℃，然后保温10min～300min，进而在所述氧化铝膜表面形成改性层。

14.根据权利要求12或13所述的覆铜陶瓷制备方法，其特征在于，所述改性浆料包括如下重量组分：改性颗粒40～60份，松油醇：40～60份，乙基纤维素：1～4份，邻苯二甲酸二丁酯：3～6份和流平剂：0.2～0.5份。

15.根据权利要求12或13所述的覆铜陶瓷制备方法，其特征在于，所述改性浆料通过丝网印制印刷于所述氮化铝陶瓷的氧化铝膜表面，改性浆料的印刷厚度为0.5μm～50μm。

16.根据权利要求9所述的覆铜陶瓷制备方法，其特征在于，在所述改性层表面形成铜层包括：

对铜片进行预氧化，在铜片与改性层接触的表面形成氧化亚铜膜；

将预氧化后的铜片覆盖在所述改性层上；

将经过上述处理后的氮化铝陶瓷置于氧分压为0～100ppm的保护气氛中，升温至1065℃～1083℃，然后保温10min～180min，以使铜层、改性层与氮化铝陶瓷结合一体。