[发明专利]一种电镀废水深度处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及废水处理技术领域，特别是涉及一种电镀废水深度处理方法。

背景技术

电镀是利用电化学的方法对金属和非金属表面进行装饰、防护及获得某些新的性质的一种工艺过程，为保证电镀产品的质量，使金属镀层具有平整光滑的良好外观并与基体牢固结合，必须在镀前把镀件表面上的污物(油、锈、氧化皮等)彻底清洗干净，并在镀后把镀件表面的附着液清洗干净。因此，一般电镀生产过程中必然排出大量的废水。电镀废水的水质、水量与电镀生产的工艺条件、生产负荷、操作管理与用水方式等因素有关。电镀废水的水质复杂，成分不易控制，其中含有的铬、铜、镍、锌、金、银、镉等重金属离子和氰化物等毒性较大，有些属于致癌、致畸、致突变的剧毒物质，对人类危害极大。

就我国电镀产业而言，全国已有近2万家电镀企业，主要集中在长江三角洲以及珠江三角洲地区，虽然电镀产业的发展为当地经济发展作出了巨大的贡献，但带来的环境问题却日益严峻，电镀废水若直接流入江河湖海或渗入土壤地层，将会污染地下水源，破坏生态环境，危害人类健康。因此，对于电镀废水必须进行专业化的处理，这种专业化处理主要包括两层意思：一是要使电镀废水达到国家规定的排放标准；二是为充分利用宝贵的水资源，达标排放水要再次深化处理，回到生产线上循环利用。

近年来，随着人们对环境生活质量要求的日益提高以及国家对环保重视的力度不断加强，对电镀废水的处理及排放日趋严格，废水回收要求也逐渐提高，环保已成为电镀企业生存和发展的首要前提，国家通过出台一系列政策措施和管理办法，也表达了对电镀废水处理的决心。

未来的发展是要将电镀企业纳入统一管理，园区内电镀企业废水集中处理的园区经营模式，而如何解决电镀废水处理问题是每个电镀园区必须首先考虑的首要问题，一方面是提高电镀的工艺水平，多采用低污染、少污染的电镀工艺，另一方面，结合现代电镀废水处理工艺发展，包括分流治理技术、废水回用技术、金属回收利用技术、零排放技术等，提高电镀废水的处理水平，减少排入环境中污染物的量。

经过调查发现：在国内电镀园区废水处理中，COD、总氮、氨氮、总磷、等生化指标的长期稳定达标仍是需要突破的一大难题。因为园区电镀企业电镀工艺各异，所使用的电镀药剂各异，水质十分复杂。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术中的不足之处，提供一种既节省成本，又能提高电镀废水处理效率，且处理效果理想的电镀废水深度处理系统及方法。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

一种电镀废水深度处理方法，包括以下步骤：

将电镀废水依次通过水解酸化池、活性污泥系统、中沉池、二沉池、高级氧化池、高密沉淀池、BAF滤池，即可达标排放；

所述高级氧化池的工艺参数为：控制pH值为3～4，投放质量比为1：1的硫酸亚铁和双氧水，曝气时间为50～60min。

在其中一些实施例中，所述水解酸化池的工艺参数为：采用聚乙烯填料，控制pH值为7.5～8.5，水力停留时间为9.9h。

在其中一些实施例中，所述活性污泥系统的工艺参数为：该活性污泥系统包括A/A/O池、A/O池；所述A/A/O池包括厌氧池、一段缺氧池、一段好氧池；所述A/O池包括二段缺氧池、二段好氧池；控制系统pH值≥7.0，所述A/A/O池的内回流为250～450％，外回流为100～150％；所述A/A/O池的厌氧池的pH值为6.5～8.0，溶解氧DO<0.2mg/L，水利停留时间为1.54h；所述A/A/O池的一段缺氧池的pH值为7.0～8.0，溶解氧DO<0.5mg/L，水利停留时间为5.8h；所述A/A/O池的一段好氧池的pH值为7.5～8.5，溶解氧DO为2～3mg/L，水利停留时间为7.65h；所述A/A/O池的污泥浓度为2500～3000mg/L，污泥沉降比为20～25wt％，污泥龄为10～20天。

在其中一些实施例中，所述A/O池的二段缺氧池的pH值为7.0～8.0，溶解氧DO<0.5mg/L，水利停留时间为2h；所述A/O池的二段好氧池的pH值为7.5～8.5，溶解氧DO为1.8～2.5mg/L，水利停留时间为5.8h；所述A/O池的污泥浓度为2500～3000mg/L，污泥沉降比为20～25wt％，污泥龄为20～30天。

在其中一些实施例中，所述中沉池的工艺参数为：表面负荷为0.96m³/(m²·h)。