[发明专利]多重光刻成型的集成电路版图划分方法及系统有效
| 申请号： | 201610930891.X | 申请日： | 2016-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN108009306B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 吴玉平;陈岚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多重 光刻 成型 集成电路 版图 划分 方法 系统 | ||
1.一种多重光刻成型的集成电路版图划分方法，其特征在于，包括：
输入版图数据；
根据版图类型将所述版图分割为多个版图区域；
根据所述版图类型对所述多个版图区域中的部分版图区域或全部版图区域分别构造对应的图，得到多个图；
遍历所述多个图，以查找冲突环路；
对存在冲突环路的节点进行切割，以消除所述冲突环路；
根据所述版图类型，对所述多个版图区域中的图形进行着色；
输出着色后的版图数据；
所述版图类型为包括总线的版图；
所述根据所述版图类型将所述版图分割为多个版图区域具体包括：
标识所述总线；
将所述版图分割为总线版图区域和非总线版图区域；
所述根据所述版图类型对所述多个版图区域中的部分区域或全部区域分别构造对应的图，得到多个图，具体包括：
对所述非总线版图区域构造对应的图，得到多个图；
所述根据所述版图类型，对所述多个版图区域中的图形进行着色具体包括：
对所述非总线版图区域对应的图形进行着色；
根据所述非总线版图区域中图形的颜色，对所述总线版图区域的图形进行着色；
所述根据所述非总线版图区域中图形的颜色，对所述总线版图区域的图形进行着色具体包括：
根据所述非总线版图区域中的图形的颜色，判断是否需要分割所述总线版图区域；
若是，则将所述总线版图区域分割为多个总线区域块；
对所述多个总线区域块进行着色，使得所述总线区域块的颜色和与其相邻的所述非总线区域的图形的颜色无冲突。
2.根据权利要求1所述的多重光刻成型的集成电路版图划分方法，其特征在于，所述多重光刻为两重光刻，或两重以上光刻。
3.一种多重光刻成型的集成电路版图划分方法，其特征在于，包括：
输入版图数据；
根据版图类型将所述版图分割为多个版图区域；
根据所述版图类型对所述多个版图区域中的部分版图区域或全部版图区域分别构造对应的图，得到多个图；
遍历所述多个图，以查找冲突环路；
对存在冲突环路的节点进行切割，以消除所述冲突环路；
根据所述版图类型，对所述多个版图区域中的图形进行着色；
输出着色后的版图数据；
所述版图类型为包括长度为单元高度的多数倍的长信号线的版图；
所述根据所述版图类型将所述版图分割为多个版图区域具体包括：
标识所述长信号线；
将所述长信号线之外部分的版图分割为多个非长信号线版图区域；
根据所述非长信号线版图区域分布情况，将所述长信号线分割为长信号线段，一个所述长信号线段和与其相邻的一个所述非长信号线版图区域形成一个所述版图区域；
所述根据所述版图类型对所述多个版图区域中的部分版图区域或全部版图区域分别构造对应的图，得到多个图，具体为：
对全部所述多个版图区域分别构造对应的图，得到多个图。
4.根据权利要求3所述的多重光刻成型的集成电路版图划分方法，其特征在于，所述多重光刻为两重光刻，或两重以上光刻。
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