[发明专利]表面改性掩模板、其制作方法、电致发光器件的制作方法

说明书

本发明提供了一种表面改性掩模板、其制作方法、电致发光器件的制作方法。该表面改性掩模板具有多个镂空部，表面改性掩模板具有改性表面，改性表面包括第一改性表面和第二改性表面，第一改性表面围绕镂空部，第一改性表面之外的改性表面为第二改性表面，且第一改性表面和第二改性表面分别为亲水性表面和疏水性表面。从而利用上述表面改性掩模板制备电致发光器件时，能够使具有亲水性或疏水性墨水不会粘附在表面改性掩模板上，从而利用掩模板提高了材料的导向性，进而不仅能够利用溶液法中的喷涂工艺来制作像素，还能够利用精度较低的喷墨打印设备来制作像素，最终降低了采用精密喷墨打印设备所需的成本。

技术领域

本发明涉及光学技术领域，具体而言，涉及一种表面改性掩模板、其制作方法、电致发光器件的制作方法。

背景技术

随着科学技术的不断发展，人们对显示器画质的要求不断提升，OLED(有机发光二极管)与QLED(量子点发光二极管)被认为是未来最具代表性的显示技术。OLED通常采用蒸镀法来制备上述电致发光器件，即在基板上方覆盖掩模板并进行多次真空热蒸镀以制备RGB像素，如在蒸镀R像素时，将GB像素对应的位置用掩模板遮盖从而不被蒸镀，上述方法中由于材料的利用率较低，从而导致成本极高，基于上述不足，目前溶液法来制作上述具有RGB像素的OLED电致发光器件被广泛研究，以期与溶液法制程见长的QLED电致发光器件抗衡，QLED器件有着广色域、色彩精准可控等而被认为是下一代最佳的显示技术。无论是不断抢占传统LCD显示市场的OLED显示，还是蓬勃发展以期取代OLED而使显示技术直接从LCD过渡到QLED的QLED显示，溶液法制程都是目前研究的关键。

然而，对于溶液法中的喷涂工艺而言，由于喷涂设备的材料导向性较低，使其仅适合区域涂布，不适用于点涂布；而对于溶液法制备工艺中的喷墨打印工艺，为了保证墨水的注入精度通常需要采用精密的喷墨打印设备，从而导致设备投入太过昂贵。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种表面改性掩模板、其制作方法、电致发光器件的制作方法，以解决现有技术中采用精密的喷墨打印设备制备发光器件而导致的设备投入太过昂贵的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种表面改性掩模板，表面改性掩模板具有多个镂空部，表面改性掩模板具有改性表面，改性表面包括第一改性表面和第二改性表面，第一改性表面围绕镂空部，第一改性表面之外的改性表面为第二改性表面，且第一改性表面和第二改性表面不同且分别选自亲水性表面和疏水性表面中的一种。

根据本发明的另一方面，提供了一种掩模板的表面改性方法，包括以下步骤：对具有多个镂空部的掩模板的表面进行改性，形成改性表面，其中，改性表面包括第一改性表面和第二改性表面，第一改性表面围绕镂空部，第一改性表面之外的改性表面为第二改性表面，且第一改性表面和第二改性表面不同且分别具有亲水性或疏水性。

进一步地，表面改性方法包括：步骤S01，将掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使疏水性材料固定于掩模板的表面，优选疏水性材料为含氟的硅烷偶联剂；步骤S02，将固定有疏水性材料的掩模板与溶液分离，并对掩模板进行干燥处理；步骤S03，将第一光罩设置于掩模板的第一表面上，第一光罩由多个第一遮挡部以及连接各第一遮挡部的第一透光部组成，第一遮挡部与镂空部一一对应，且各第一遮挡部的面积大于与其对应的各镂空部的面积，通过第一光罩对第一表面进行紫外线臭氧光解氧化，再对掩模板的与第一表面相对的第二表面进行紫外线臭氧光解氧化，以形成具有亲水性的第二改性表面，掩模板的其余表面构成具有疏水性的第一改性表面；或将第二光罩设置于掩模板上，第二光罩由多个第二透光部以及连接各第二透光部的第二遮挡部组成，且第二透光部与镂空部一一对应，且各第二透光部的面积大于与其对应的各镂空部的面积，对掩模板进行紫外线臭氧光解氧化，以使掩模板的对应第二透光部的表面形成具有亲水性的第一改性表面，掩模板的其余表面构成具有疏水性的第二改性表面。