[发明专利]一种抛光液供应系统及方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种抛光液供应系统及方法，特别是涉及一种半导体硅片抛光液供应系统及方法。

背景技术

传统的半导体硅片抛光液供应系统为中央供应(Central Supply)。如图1所示，传统的半导体硅片抛光液供应系统包括：至少一中央纯水供应装置1，所述纯水供应装置1及抛光液原液桶3连接于至少一第一中央储液罐21及至少一第二中央储液罐22，所述第一中央储液罐21及所述第二中央储液罐22连接于至少一本地储液罐4，所述本地储液罐4连接于至少一抛光机5。

具体的，传统的半导体硅片抛光液供应系统在中央供应系统设置两个中央储液罐(一般为一用一备)，抛光液原液由原液桶打到中央储液罐，去离子水由纯水供应系统打到中央储液罐，抛光液原液与去离子水在中央储液罐按照固定比例混合，然后经过一系列参数检验(如PH值，比重)后，混合的抛光液经由泵供应给每台抛光机旁边的本地储液罐，再由本地储液罐供应给抛光机进行抛光作业。

但这种传统的抛光液供应系统的存在以下问题：

1)需要同时设置中央供应系统与本地储液罐，比较占用空间；

2)抛光液一般为强碱性溶液，供应过程中的泵与管路均需使用耐腐蚀材料，且抛光液原液与纯水低比例混合后供应量很大使得中央供应系统中泵与管路成本较高。

3)中央系统供应抛光液混合比例固定，使得各抛光机的抛光液混合比例不能够有差异，做试验进行优化时不方便。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种抛光液供应系统，用于解决现有技术中抛光液供应系统空间占用大，制作成本较高，使用不方便等问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种抛光液供应系统，所述抛光液供应系统包括：至少一纯水供应装置及至少一原液供应装置，所述纯水供应装置及所述原液供应装置连接于至少一第一储液装置及至少一第二储液装置，所述第一储液装置及所述第二储液装置连接于至少一抛光机。

优选地，所述纯水供应装置及原液供应装置连接于至少一储液装置组，所述每个储液装置组包括一第一储液装置及一第二储液装置，所述每个储液装置组连接于一抛光机。

优选地，所述第一储液装置及第二储液装置设置有液位依次降低的第一液位，第二液位，第三液位，第四液位及第五液位，各个液位设置有液位传感器。

优选地，充液过程中，所述第五液位的液位传感器被触发，纯水供应装置补充去离子水；所述第四液位的液位传感器被触发，纯水供应装置补充去离子水；所述第三液位的液位传感器被触发，纯水供应装置停止补充去离子水，储液装置开始补充抛光液；所述第二液位的液位传感器被触发，储液装置停止补充抛光液；所述第一液位的液位传感器被触发，储液装置停止补充抛光液，充液系统关闭并报警提示。

优选地，供液过程中，所述第一液位的液位传感器被触发，储液装置停止供液，供液系统关闭并报警提示；所述第二液位的液位传感器不会被触发；所述第三液位的液位传感器不会被触发；所述第四液位的液位传感器被触发，所述液位传感器被触发的储液装置停止供液，同时另一个储液装置开始供液；所述第五液位的液位传感器被触发，储液装置停止供液，供液系统关闭并报警提示。

优选地，所述储液装置中的抛光液为硅片边缘，硅片正面及背面表面抛光所用的抛光液。

优选地，还包括设置于所述储液装置中的温度控制装置及搅拌装置中的一种或多种组合。

优选地，还包括连接于所述储液装置的循环装置及过滤装置中的一种或多种组合。

本发明还提供一种抛光液供应方法，所述抛光液供应方法包括：步骤S1：收到供液信号，第一储液装置开始供液；步骤S2：判断第一储液装置是否供液完成，若是，执行步骤S3；若否，继续执行步骤S2；步骤S3：第一储液装置停止供液，第二储液装置开始供液，第一储液装置开始充液；步骤S4：判断第二储液装置是否供液完成，若是，执行步骤S5；若否，继续执行步骤S4；步骤S5：第二储液装置停止供液，第一储液装置开始供液，第二储液装置开始充液。

优选地，所述充液包括以下步骤：步骤S01：补充去离子水到储液装置中液位，停止补充去离子水并记录去离子水的补充量；步骤S02：按照预设定的抛光液与去离子水的比例，根据去离子水的补充量确定补充抛光液的补充量并补充抛光液；步骤S03：在线检测储液装置中的抛光液规格是否达到预设定的抛光液规格，若是，继续执行步骤S03，若否，执行步骤S04；步骤S04：报警提示。

优选地，所述去离子水的补充量使用纯水流量计记录，所述抛光液的补充量使用积算流量计记录。