[发明专利]一种抛光液供应系统及方法在审
申请号: | 201610451540.0 | 申请日: | 2016-06-21 |
公开(公告)号: | CN107520759A | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 赵厚莹 | 申请(专利权)人: | 上海新昇半导体科技有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抛光 供应 系统 方法 | ||
1.一种抛光液供应系统,其特征在于,所述抛光液供应系统包括:至少一纯水供应装置及至少一原液供应装置,
所述纯水供应装置及所述原液供应装置连接于至少一第一储液装置及至少一第二储液装置,所述第一储液装置及所述第二储液装置连接于至少一抛光机。
2.根据权利要求1所述的抛光液供应系统,其特征在于:所述纯水供应装置及原液供应装置连接于至少一储液装置组,所述每个储液装置组包括一第一储液装置及一第二储液装置,所述每个储液装置组连接于一抛光机。
3.根据权利要求1所述的抛光液供应系统,其特征在于:所述第一储液装置及第二储液装置设置有液位依次降低的第一液位,第二液位,第三液位,第四液位及第五液位,各个液位设置有液位传感器。
4.根据权利要求3所述的抛光液供应系统,其特征在于:充液过程中,
所述第五液位的液位传感器被触发,纯水供应装置补充去离子水;
所述第四液位的液位传感器被触发,纯水供应装置补充去离子水;
所述第三液位的液位传感器被触发,纯水供应装置停止补充去离子水,所述液位传感器被触发的储液装置开始补充抛光液;
所述第二液位的液位传感器被触发,储液装置停止补充抛光液;
所述第一液位的液位传感器被触发,储液装置停止补充抛光液,充液系统关闭并报警提示。
5.根据权利要求3所述的抛光液供应系统,其特征在于:供液过程中,
所述第一液位的液位传感器被触发,储液装置停止供液,供液系统关闭并报警提示;
所述第二液位的液位传感器不会被触发;
所述第三液位的液位传感器不会被触发;
所述第四液位的液位传感器被触发,所述液位传感器被触发的储液装置停止供液,同时另一个储液装置开始供液;
所述第五液位的传感器被触发,储液装置停止供液,供液系统关闭并报警提示。
6.根据权利要求1所述的抛光液供应系统,其特征在于:所述储液装置中补充的抛光液为硅片边缘,硅片正面及背面表面抛光所用的抛光液。
7.根据权利要求1所述的抛光液供应系统,其特征在于:还包括设置于所述储液装置中的温度控制装置及搅拌装置中的一种或多种组合。
8.根据权利要求1所述的抛光液供应系统,其特征在于:还包括连接于所述储液装置的循环装置及过滤装置中的一种或多种组合。
9.一种抛光液供应方法,其特征在于,所述抛光液供应方法包括:
步骤S1:收到供液信号,第一储液装置开始供液;
步骤S2:判断第一储液装置是否供液完成,若是,执行步骤S3;若否,继续执行步骤S2;
步骤S3:第一储液装置停止供液,第二储液装置开始供液,第一储液装置开始充液;
步骤S4:判断第二储液装置是否供液完成,若是,执行步骤S5;若否,继续执行步骤S4;
步骤S5:第二储液装置停止供液,第一储液装置开始供液,第二储液装置开始充液。
10.根据权利要求9所述的抛光液供应方法,其特征在于:所述充液包括以下步骤:
步骤S01:补充去离子水到储液装置第三液位,停止补充去离子水并记录去离子水的补充量;
步骤S02:按照预设定的抛光液与去离子水的比例,根据去离子水的补充量确定补充抛光液的补充量并补充抛光液;
步骤S03:在线检测储液装置中的抛光液规格是否达到预设定的抛光液规格,若是,继续执行步骤S03,若否,执行步骤S04;
步骤S04:报警提示。
11.根据权利要求10所述的抛光液供应方法,其特征在于:所述去离子水的补充量使用纯水流量计记录,所述抛光液的补充量使用积算流量计记录。
12.根据权利要求10所述的抛光液供应方法,其特征在于:所述抛光液规格的设定参数包括温度,PH值及微粒含量中的一种或多种组合。
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