[发明专利]用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座

权利要求书

1.一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于包括：

托盘主体，呈一圆盘结构，该圆盘外侧边上具有外螺纹，所述圆盘中心具有一凹槽；

外边缘部件，呈一圆环结构，所述圆环内侧边上具有与所述外螺纹配套的内螺纹，外环部件通过配套的螺纹结构旋拧在托盘主体上且可通过控制旋拧圈数改变外环部件相对于托盘主体的高度位置；以及

内嵌部件，其嵌置于所述凹槽内，所述内嵌部件中间开设一用于放置样品的凹坑。

2.根据权利要求1所述的用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于，所述组合式衬底基座为微波等离子体化学气相沉积设备中用于制备金刚石的衬底基座。

3.根据权利要求1所述的用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于，所述托盘主体、外边缘部件和内嵌部件的材料为钼。

4.根据权利要求1所述的用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于，所述托盘主体下部还具有一外侧圆环，该外侧圆环不具有外螺纹，用于支撑所述组合式托盘以及限制所述外环部件的旋拧位置。

5.根据权利要求1所述的用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于，所述凹槽为圆柱形凹槽。

6.根据权利要求1所述的用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于，所述外边缘部件的圆环边缘具有倒圆结构。

7.根据权利要求1所述的用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，其特征在于，所述凹坑的尺寸依据样品的尺寸进行调整。