[发明专利]一种用于炉管机台石英套管安装的标准检查治具

说明书

技术领域

本发明涉及半导体集成电路设备维护技术领域，更具体地，涉及一种用于炉管机台石英套管安装的标准检查治具。

背景技术

用于对半导体晶圆(Wafer)进行低温氮化处理的炉管机台，例如日本东京电子公司(TEL)Formula HCD机型的炉管机台，在其真空管路中装有两个以间隙方式套接的石英套管(sleeve quartz)，用于收集工艺生成物。

请参阅图1，图1是现有的一种Formula HCD机台石英套管的安装状态结构示意图。如图1所示，两个石英套管A、B为贯通的圆管，其分别通过法兰端7、4与一段真空管路1的管壁6采用卡箍固定安装，可通过拆卸该段真空管路，对石英套管A、B进行清洁保养。其中，石英套管A的套接端具有一段缩颈部5，以便伸入石英套管B的套接端与其安装并形成间隙的同轴平行套接。石英套管A、B与该段真空管路的管壁6之间具有间距，并形成密封的空间2，可通过通入氮气来防止真空管路泄露。该段真空管路的管壁外侧包覆有加热器3，用于防止在石英套管A、B处收集的工艺生成物凝结。

从图1中可以看出，由于石英套管A、B只通过法兰端7、4进行固定，其套接端为悬空状态，因而要实现石英套管A、B的间隙同轴套接是较为困难的。

目前安装石英套管时，主要是依靠工程师的安装手法和经验，其安装是否准确主要依靠目测检查，因此较难保证两个石英套管之间的间隙同轴套接。并且，不同的工程师安装的石英套管不能够统一标准，从而不能保证安装质量的可靠性。而一旦石英套管的安装位置产生偏差，将导致低温氮化时的生成物堆积，以致造成回流particle(颗粒)缺陷。回流particle典型的是fall on(落下)小颗粒，主要集中分布在晶圆边缘位置，并呈从晶舟顶部到底部数量逐渐递减态势，这会导致产品报废的严重后果。

因此，为了防止由于石英套管安装偏移造成炉管Particle所导致的产品报废问题，设计一个用于石英套管同轴套接安装的标准检查制具，就显得尤为必要。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种用于炉管机台石英套管安装的标准检查治具，能够可靠保证石英套管安装时的准确度，并杜绝因为安装偏移问题所导致的产品报废问题。

为实现上述目的，本发明的技术方案如下：

一种用于炉管机台石英套管安装的标准检查治具，所述石英套管为设于炉管机台真空管路中的贯通圆管，包括第一、第二石英套管，其内端以间隙方式相内、外平行套接，其外端分别与一段真空管路的管壁固定安装，所述标准检查治具包括：

检查部，为一段圆管，其前端用于在第一、第二石英套管固定安装后，从第二石英套管外端向第一、第二石英套管套接部的间隙平行伸入，以根据其是否能自由伸入该间隙来判断第一、第二石英套管是否同轴套接；

保持部，与检查部的圆管尾端固定，用于保持检查部的圆管形状及控制其检查时的伸入长度。

优选地，所述检查部的圆管管壁厚度与第一、第二石英套管同轴套接时的公称间隙相对应，并在其平行伸入时形成间隙配合。

优选地，所述检查部的圆管前端具有帮助伸入第一、第二石英套管套接部间隙的导入部。

优选地，所述导入部的截面为锥形或弧形。

优选地，所述保持部为垂直固定于检查部圆管尾端的基座。

优选地，所述基座为法兰形。

优选地，所述保持部设有与检查部圆管相通的观察窗口。

优选地，所述观察窗口通过检查部的圆管尾端向保持部贯通而形成。

优选地，所述标准检查治具采用特氟龙材料制成。

优选地，所述标准检查治具采用一体成型或切削加工制成。

从上述技术方案可以看出，本发明通过在炉管机台真空管路中安装两个石英套管后，利用其同轴套接时形成均匀间隙的特点，将标准检查治具的圆管形检查部向石英套管套接部的间隙平行伸入，即可根据其是否能自由伸入该间隙来判断两个石英套管是否处于同轴套接状态，从而能够可靠保证石英套管每一次安装的准确度，并杜绝因为安装偏移问题所导致的产品报废问题；同时，通过在圆管形检查部尾端设置的基座保持部，可在标准检查治具使用及存放时对圆管形检查部进行保护，避免其受力变形，并可控制其检查时的伸入长度；此外，通过在基座保持部设置观察窗口，可透过检查部的圆管观察标准检查治具在两个石英套管套接间隙中的配合状态，从而可快速准确地判断两个石英套管的套接是否符合标准。通过本发明可实现石英套管安装时量化的统一安装检查标准，使用方便简单。

附图说明