[发明专利]绝对式光栅尺、其主光栅及其测量方法有效

专利信息
申请号: 201610157166.3 申请日: 2016-03-18
公开(公告)号: CN105606033B 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 李星辉;倪凯;王欢欢;周倩;冒新宇;曾理江;肖翔 申请(专利权)人: 清华大学深圳研究生院
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 代理人: 杨洪龙
地址: 518055 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 绝对 光栅尺 光栅 及其 测量方法
【权利要求书】:

1.一种绝对式光栅尺,包括主光栅和读数头部件,所述读数头部件包括增量位移测量单元,其特征是,所述读数头部件还包括第一分光镜、掩膜板和参考位置光电探测器,所述主光栅上分布有若干个参考编码,任意相邻的两个参考编码之间的距离与其余任意相邻的两个参考编码之间的距离不相同,所述第一分光镜用于将光源的光分成射向主光栅的光束和射向增量位移测量单元的光束,所述射向主光栅的光束经过所述掩膜板到达所述主光栅并被反射后,再次经过所述掩膜板后被所述参考位置光电探测器接收,所述掩膜板上设有与所述主光栅上的参考编码相对应的参考编码。

2.如权利要求1所述的绝对式光栅尺,其特征是,所述掩膜板上的参考编码与所述主光栅上的参考编码相同。

3.如权利要求1所述的绝对式光栅尺,其特征是,所述主光栅上的光栅栅距小于所述主光栅上的参考编码的线宽。

4.如权利要求1所述的绝对式光栅尺,其特征是,

所述主光栅和参考光栅为反射式光栅。

5.如权利要求1所述的绝对式光栅尺,其特征是,

所述掩膜板上的参考编码上分布有透光区域和不透光区域,所述掩膜板上除所述参考编码以外的区域为不透光区域。

6.一种采用如权利要求1所述绝对式光栅尺的测量方法,其特征是,包括如下步骤:

S1、移动所述读数头部件,所述增量位移测量单元测量所述读数头部件从初始位置开始的相对所述主光栅移动的第一位移;

S2、当所述参考位置光电探测器检测到第一光脉冲时,记录所述读数头部件位于第一位置,当所述参考位置光电探测器检测到第二光脉冲时,记录所述读数头部件位于第二位置,所述增量位移测量单元计算所述读数头部件从所述第一位置到所述第二位置的相对于所述主光栅移动的第二位移;

S3、计算所述第一位移与第二位移的差,根据所述差对照主光栅上的相邻的两个参考编码之间的距离;

S4、确定所述读数头部件的初始位置的绝对位置。

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