[发明专利]一种金属湿式蚀刻终点的监控方法及其装置

说明书

本发明提供一种金属湿式蚀刻装置，包括：玻璃基板，用于承载待蚀刻的金属膜；第一光信号收发器，用于向所述玻璃基板垂直地发射穿透性光信号并接收反射回来的光信号；以及第二光信号收发器，用于接收所述第一光信号收发器发射的穿过所述玻璃基板的光信号。其中，所述第二光信号收发器接收到光信号的时间点为位于该光信号照射处的所述金属膜蚀刻完成的时间点。本发明解决了现有技术中，使用光信号收发器对金属湿式蚀刻终点进行监控的过程中，因为金属膜在蚀刻过程中膜的厚度变小而导致光线的反射角度发生变化，而导致无法获取金属膜的准确的蚀刻终点时间的问题。

【技术领域】

本发明涉及金属蚀刻技术领域，特别涉及一种金属湿式蚀刻终点的监控方法及其装置。

【背景技术】

目前，现有技术在制作液晶面板时，会有金属湿式蚀刻机对金属进行蚀刻的金属湿式蚀刻工序。金属湿式蚀刻是表面镀有金属膜(金属层)的基板置于盛满酸液的蚀刻槽内，对金属膜未被光阻保护的区域进行蚀刻，以得到为光阻保护的图案。在金属湿式蚀刻机对批量的金属膜进行蚀刻之前，先从批量的金属膜中选取一块作为样板金属膜，并获取样板金属膜进行蚀刻终点的侦测。目前业界现存有两种方式来进行蚀刻终点的侦测，一是由工作人员实施抽检，以目视方式结合经验进行判定而获取样板金属膜的蚀刻终点时间。一是会先通过终点侦测机(EPD，End Point Detector)的感测器获取样板金属膜的蚀刻终点时间，蚀刻终点时间的定义为从承载在基板上的金属膜接触用于蚀刻酸液开始，到终点侦测机的感测器测试到金属膜透光为止。终点侦测机的工作原理为采用光反射/透射原理，当基板有金属膜时，因金属膜无法透光，终点侦测机的感测器所发射出的光信号会被金属膜反射，终点侦测机据此判定仍未达金属膜的蚀刻终点。而当基板所承载的金属膜被酸液蚀刻完全时，则会透光，感测器射出的光信号会穿透基板而不会被反射，终点侦测机据此判定已达金属膜的蚀刻终点。获取前述蚀刻终点时间之后，再对批量金属膜进行蚀刻。然而，获取前述蚀刻终点时间之后，再对批量金属膜进行蚀刻，但为避免蚀刻速率不均的情形，而残留金属膜，因此一般而言在前述蚀刻终点时间之后，会再增加一段过蚀刻(over etching)时间，此为实际总蚀刻时间，其定义为实际总蚀刻时间＝蚀刻终点时间+(蚀刻终点时间×过蚀刻比例)，以避免残留金属膜的情形。例如：测得的样板金属膜的蚀刻终点时间若为100sec,而设定的比例为42％，那么，对每一块金属膜的实际总蚀刻时间即固定为142sec。

上述现有技术的监控方法仍有缺点，金属膜的膜厚在蚀刻期间会发生变化，这样就会导致终点侦测机射向金属膜的光信号线角度发生变化，同时金属膜对所述光信号的反射角度也会发生变化。在此情况下，终点侦测机就不能接收到反射光信号线，准确得到金属膜蚀刻终点的时间。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种金属湿式蚀刻终点的监控方法及其装置，以解决现有技术使用光信号收发器对金属湿式蚀刻终点进行监控的过程中，因为金属膜在蚀刻过程中膜的厚度变小而导致光线的反射角度发生变化，无法得到准确的蚀刻终点的时间点的问题。

本发明的技术方案如下：

一种金属湿式蚀刻装置，所述金属湿式蚀刻装置包括：

玻璃基板，用于承载待蚀刻的金属膜，所述金属膜覆盖所述玻璃基板；

第一光信号收发器，用于向所述玻璃基板垂直地发射穿透性光信号并接收反射回来的光信号；以及

第二光信号收发器，用于接收所述第一光信号收发器发射的穿过所述玻璃基板的光信号；

其中，所述光信号可穿过所述玻璃基板，所述金属膜对光信号具有反射作用，所述第一光信号收发器与所述第二光信号收发器分别对应地固定在所述玻璃基板的角落边沿的下方与上方，且它们的连线与所述玻璃基板的平面垂直，并穿过所述玻璃基板的边沿，所述第二光信号收发器接收到光信号的时间点为位于该光信号照射处的所述金属膜蚀刻完成的时间点。