[发明专利]一种基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法在审
申请号: | 201610080449.2 | 申请日: | 2016-02-04 |
公开(公告)号: | CN107037934A | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | 马来鹏;任文才;成会明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙)21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 光学 转移 技术 制作 石墨 电容 触摸屏 方法 | ||
技术领域
本发明涉及石墨烯触摸屏的加工领域,具体为一种通过光学胶转移技术制备基于石墨烯触透明导电膜的电容式触摸屏的新方法。
背景技术
随着便携式个人消费电子产品的快速发展,电容式触摸屏得到了广泛的使用。轻薄化甚至柔性化是电容式触摸屏发展的必然趋势。透明导电薄膜是电容式触摸屏中的关键材料。目前普遍使用的氧化铟锡(ITO)等氧化物透明导电薄膜材料存在使用中易受外界条件的影响,柔性差等突出问题。
作为新型的二维材料,石墨烯透明导电薄膜在制作电容式触摸屏方面具有独特的优势。相比于传统的ITO材料,石墨烯对近红外和可见光及紫外光均具有优异的透过率,具有优异的柔性、热稳定性和化学稳定性。由于CVD生长的石墨烯具有质量高,尺寸易于放大的突出优点,制作石墨烯触摸屏普遍采用基于该方法制备的石墨烯薄膜。为了获得用于触摸屏的石墨烯透明导电薄膜,需要采用转移工艺将CVD法制备的石墨烯放置在玻璃、PET等基材上。目前,大面积石墨烯的转移技术主要使用特定的转移介质材料作为石墨烯的结构支撑层,在转移后需要去除。然而,现有的转移工艺均独立于触摸屏的制作过程之外,增加了石墨烯触摸屏制作工艺的复杂性,而且去除转移介质的过程易导致石墨烯破损,因此降低了触摸屏的产品良率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种制作基于石墨烯透明导电膜的电容式触摸屏的新方法。该方法利用光学胶作为石墨烯的转移介质,简化了石墨烯触摸屏的制作工艺,有利于提高产品的良率。
本发明的技术方案是:
一种基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法,所述触摸屏的主体由盖板、光学胶、石墨烯透明导电薄膜和基材构成,该方法利用触摸屏中的光 学胶作为石墨烯的转移介质,首先在初始基体表面形成石墨烯,再将光学胶膜结合到石墨烯的表面,分离石墨烯与初始基体后获得以光学胶膜作为基材的石墨烯透明导电薄膜;对石墨烯透明导电薄膜进行图形化、制作导线和压合FPC加工后直接与盖板贴合,从而完成触摸屏的制作。
所述的基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法,位于初始基体的石墨烯的平均层数为单层,少层或多层,层数为10层以下。
所述的基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法,石墨烯为采用化学气相沉积方法生长的石墨烯或析出方法生长的石墨烯。
所述的基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法,采用的光学胶为电容式触摸屏中使用的光学胶OCA薄膜。
所述的基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法,将石墨烯与初始基体分离的方法为蚀刻基体法、鼓泡剥离法或机械剥离法。
所述的基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法,根据需要使用两层以上的石墨烯透明导电薄膜,重复操作直到获得相应层数的石墨烯透明导电薄膜。
所述的基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法,对石墨烯透明导电薄膜进行图形化加工的方法为激光蚀刻法、等离子体蚀刻法或氧化法。
所述的基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法,所形成的图形化石墨烯透明导电膜包括导线部分,导线部分的材料为银、铜、铜镍合金或钼铝合金,导线部分的制作方法为印刷工艺、光刻工艺或激光蚀刻工艺。
所述的基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的方法,盖板材料为玻璃、聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA、或聚对苯二甲酸乙二醇酯PET。
本发明的特点及有益效果是:
光学胶层是电容式触摸屏的典型组成部分,本发明使触摸屏中固有的光学胶粘结层作为石墨烯的转移介质,避免了常规工艺中涂覆和去除转移介质步骤,从而简化石墨烯触摸屏工艺、减少石墨烯的破损并降低原料和转移成本,有利于提高产品良率。
附图说明
图1.基于光学胶转移技术制作石墨烯电容式触摸屏的工艺流程示意图。
具体实施方式
下面通过附图和实施例对本发明进一步详细描述。
如图1所示,在具体实施过程中,本发明首先在初始基体表面形成石墨烯,再将光学胶膜结合到石墨烯的表面,分离石墨烯与初始基体后获得以光学胶膜作为基材的石墨烯透明导电薄膜;对石墨烯透明导电薄膜进行图形化、制作导线和压合柔性电路板(FPC)等加工后直接与盖板贴合,从而完成触摸屏的制作,具体步骤如下:
(1)在初始基体表面形成石墨烯;
(2)将位于初始基体的石墨烯与光学胶膜结合;
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