[发明专利]薄膜太阳能电池组件及其制备方法有效
申请号: | 201610033843.0 | 申请日: | 2016-01-19 |
公开(公告)号: | CN105789351B | 公开(公告)日: | 2017-07-18 |
发明(设计)人: | 李艺明;邓国云 | 申请(专利权)人: | 厦门神科太阳能有限公司 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/18;H01L31/0236 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司35204 | 代理人: | 张松亭,游学明 |
地址: | 361000 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 太阳能电池 组件 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及薄膜太阳能电池技术领域,尤其涉及一种CIGS基薄膜太阳能电池组件及其制备方法。
背景技术
随着全球气候变暖、生态环境恶化和常规能源的短缺,越来越多的国家开始大力发展太阳能利用技术。太阳能光伏发电是零排放的清洁能源,具有安全可靠、无噪音、无污染、资源取之不尽、建设周期短、使用寿命长等优势,因而备受关注。铜铟镓硒(CIGS)是一种直接带隙的P型半导体材料,其吸收系数高达105/cm,2um厚的铜铟镓硒薄膜就可吸收90%以上的太阳光。CIGS薄膜的带隙从1.04eV到1.67eV范围内连续可调,可实现与太阳光谱的最佳匹配。铜铟镓硒薄膜太阳电池作为新一代的薄膜电池具有成本低、性能稳定、抗辐射能力强、弱光也能发电等优点,其转换效率在薄膜太阳能电池中是最高的,已超过20%的转化率,因此日本、德国、美国等国家都投入巨资进行研究和产业化。
CIGS基薄膜太阳能电池组件一般都要进行三次的图案化工序,在基板上形成背电极层,接着对背电极层进行图案化使之形成P1沟槽,接着在背电极层上形成铜铟镓硒光吸收层,使铜铟镓硒光吸收层覆盖P1沟槽和背电极层,接着在铜铟镓硒光吸收层上形成缓冲层,接着对铜铟镓硒光吸收层和缓冲层进行图案化使之形成P2沟槽,在P2沟槽底部露出背电极层材料,接着在缓冲层上形成透明导电层,使透明导电层覆盖P2沟槽和缓冲层,接着对透明导电层、缓冲层和光吸收层进行图案化使之形成P3沟槽,在P3沟槽底部露出背电极层材料。
在透明导电层覆盖P2沟槽的侧壁和底部的情况是不相同的,由于膜层的沉积效应在P2沟槽的侧壁所沉积的透明导电层的厚度较薄,这就造成了该区域膜层的电阻较高,这就会使薄膜太阳能电池组件的串联电阻升高,从而影响到薄膜太阳能电池组件的性能。
再者,在P2沟槽的侧壁,透明导电层材料是直接与铜铟镓硒光吸收层材料接触;在P2沟槽的底部,透明导电层材料是直接与背电极层材料接触;由于在铜铟镓硒光吸收层材料及背电极层材料中都含有碱金属元素,若透明导电层直接与其接触,则碱金属就会容易的扩散进入该区域的透明导电层中,这就会造成该区域透明导电层的性能恶化(如电阻升高等),进而使薄膜太阳能电池组件的性能下降。
发明内容
本发明是为了解决上述问题而完成的,本发明提供了一种薄膜太阳能电池组件,其特征在于,该薄膜太阳能电池组件包括基板,背电极层,半导体层,透明导电层,及P1、P2和P3沟槽;其中P1沟槽被半导体层材料填充,P2沟槽覆盖透明导电层;在P2沟槽的侧壁和/或底部覆盖有高电阻材料膜层,在P2沟槽内填充具有导电性的材料,高电阻材料膜层位于P2沟槽的侧壁和/或底部与透明导电层之间,具有导电性的材料填充于透明导电层上方和/或下方。
在所述P1沟槽中也可填充具有绝缘性的材料,所述绝缘性的材料可包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化钛、氧化锆、氧化铝等。所述P1、P2和P3沟槽的位置可以相互错开,也可以P3沟槽包含在P2沟槽内。
所述高电阻材料膜层的方块电阻为5kΩ/□至350kΩ/□,优选其方块电阻为10kΩ/□至300kΩ/□;所述高电阻材料膜层的厚度为1nm-300nm,优选厚度为5nm-200nm,更优选厚度为10nm-100nm;所述高电阻材料膜层具有透光性,优选其可见光透过率大于80%,更优选其可见光透过率大于85%;所述高电阻材料膜层可由氧化锌膜层、掺杂氧化锌膜层、氧化钛膜层、掺杂氧化钛膜层、氧化铟膜层、氧化锡膜层、锌或镉掺杂的氧化锡膜层、锌镁氧化物膜层、氧化锆膜层、氧化铌膜层、氧化铝膜层、氧化硅膜层、氮化硅膜层或氮氧化硅膜层中的至少一种组成。所述具有导电性的材料由包含导电性粒子的树脂或油墨构成;所述导电性粒子可由银、铝、钛、铜、钼、铬、钨、锆、碳或及其合金,或其他导电性较好的颗粒组成;所述树脂可由丙烯酸树脂、环氧树脂等合适的树脂材料构成。
所述半导体层包括光吸收层和缓冲层。所述光吸收层为铜铟镓硒膜层、铜铟镓硒硫膜层、铜铟镓硫膜层、铜铟镓铝硒膜层、铜铟镓铝硒硫膜层、铜铟镓铝硫膜层、铜铟硒膜层、铜铟硒硫膜层、铜铟硫膜层、铜锌锡硫膜层、碲化镉膜层或它们的组合,所述光吸收层中含有碱金属元素;所述缓冲层为硫化镉、氧化锌、硫化锌、硒化锌、硫硒化锌、硫化铟、硒化铟、硫硒化铟或锌镁氧化物中的一种或两种以上,所述缓冲层可由一层或多层组成。
进一步的,在基板与背电极层之间插入一层阻挡元素扩散的电介质材料层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门神科太阳能有限公司,未经厦门神科太阳能有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610033843.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的