[发明专利]掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置

权利要求书

1.一种掩膜板组，用于制作彩膜基板，所述彩膜基板包括滤光区和多个标记区，所述滤光区被划分为多个像素单元，每个像素单元均包括沿行方向排列的多个不同颜色的子像素，其特征在于，所述掩膜板组包括：

第一掩膜板，所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有多个黑矩阵第一标记掩膜图形，且距离最近的两个所述黑矩阵第一标记掩膜图形的中心间距不小于同一行中相邻两个所述子像素的中心间距的两倍；在所述第一掩膜板的对应于任意一个所述标记区的位置，所述黑矩阵第一标记掩膜图形的个数等于所述像素单元内子像素的颜色种类数；

第二掩膜板，所述第二掩膜板对应于所述滤光区的位置形成有与其中一种颜色的多个子像素一一对应的多个色阻块掩膜图形，所述第二掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有沿列方向排列的至少两个色阻标记掩膜图形；

当所述第一掩膜板与所述彩膜基板对正时，对应于同一个标记区的多个黑矩阵第一标记掩膜图形能够在该标记区形成多个第一投影，当所述第二掩膜板的色阻块掩膜图形依次与各种颜色的子像素对正时，对应于同一个标记区的多个色阻标记掩膜图形能够在该标记区形成多列第二投影，同一个标记区中，至少两个第一投影分别对应不同列的第二投影，且所述第一投影位于相应的第二投影的范围内。

2.根据权利要求1所述的掩膜板组，其特征在于，在同一标记区中，多个所述第一投影分别与位于互不相同的列中的多个所述第二投影一一对应。

3.根据权利要求2所述的掩膜板组，其特征在于，所述第二掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有两个所述色阻标记掩膜图形，所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有三个所述黑矩阵第一标记掩膜图形，其中两个所述黑矩阵第一标记掩膜图形位于同一行中，且该两个黑矩阵第一标记掩膜图形中心连线的垂直平分线穿过第三个黑矩阵第一标记掩膜图形。

4.根据权利要求1所述的掩膜板组，其特征在于，所述掩膜板组还包括用于形成所述彩膜基板的隔垫物层的第三掩膜板，所述第三掩膜板的对应于每个所述标记区的位置均形成有至少一个隔垫物标记掩膜图形，所述第一掩膜板的对应于所述标记区的位置还形成有黑矩阵第二标记掩膜图形，当所述第一掩膜板和所述第三掩膜板均与所述彩膜基板对正时，所述黑矩阵第二标记掩膜图形在所述彩膜基板上的正投影位于所述隔垫物标记掩膜图形在所述彩膜基板上的正投影范围内。

5.根据权利要求4所述的掩膜板组，其特征在于，所述黑矩阵第一标记掩膜图形的长度和宽度均在45～50μm之间；

所述黑矩阵第二标记掩膜图形的长度和宽度均在45～50μm之间。

6.根据权利要求1所述的掩膜板组，其特征在于，在所述第二掩膜板的对应于同一个所述标记区的位置，相邻两个所述色阻标记掩膜图形的中心间距在300～320μm之间。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的掩膜板组，其特征在于，所述色阻标记掩膜图形的长度和宽度均在85～95μm之间。

8.根据权利要求1至6中任意一项所述的掩膜板组，其特征在于，所述第一掩膜板对应于所述滤光区的位置还形成有网格状的黑矩阵掩膜图形。

9.一种利用权利要求1至8中任意一项所述的掩膜板组制作彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

S1、形成黑矩阵材料层；

S2、利用所述第一掩膜板对所述黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成多个对应于所述黑矩阵第一掩膜图形的黑矩阵第一标记块；

S3、分别形成多种不同颜色的色阻块，其中，每形成一种颜色的色阻块均包括：

S3a、形成相应颜色的色阻材料层；

S3b、利用所述第二掩膜板对所述色阻材料层进行曝光并显影，以形成相应颜色的多个对应于所述色阻块掩膜图形的色阻块，同时形成相应颜色的多个对应于所述色阻标记掩膜图形的色阻标记块；

并且，同一个所述标记区中的至少两个黑矩阵第一标记块被不同颜色的色阻标记块覆盖。