[发明专利]成膜装置有效
申请号: | 201580083958.4 | 申请日: | 2015-10-19 |
公开(公告)号: | CN108138319B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 白幡孝洋;织田容征 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 戚宏梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
1.一种成膜装置,通过在大气中喷射雾化后的原料溶液,从而对基板成膜出膜,其特征在于,该成膜装置具备:
载置部,供上述基板载置;以及
喷雾头部,在底面具有原料溶液喷出口、反应材料喷出口及非活性气体喷出口,对载置于上述载置部的上述基板,经由沿规定方向延伸的原料溶液用通路从上述原料溶液喷出口喷射上述原料溶液,经由沿上述规定方向延伸的反应材料用通路从上述反应材料喷出口喷射有助于与上述原料溶液进行反应的反应材料,从上述非活性气体喷出口喷射非活性气体,
上述原料溶液喷出口、上述反应材料喷出口及上述非活性气体喷出口设置在上述喷雾头部中的成为同一面的底面上,
上述规定方向是与上述喷雾头部的底面正交的方向,
上述非活性气体喷出口设于上述原料溶液喷出口与上述反应材料喷出口之间。
2.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
上述非活性气体喷出口包含第1及第2非活性气体喷出口,
上述反应材料包含第1及第2反应材料,上述反应材料喷出口包含用于喷出上述第1及第2反应材料的第1及第2反应材料喷出口,
上述第1非活性气体喷出口设于上述原料溶液喷出口与上述第1反应材料喷出口之间,上述第2非活性气体喷出口设于上述原料溶液喷出口与上述第2反应材料喷出口之间。
3.如权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,
上述喷雾头部的底面呈由第1及第2方向规定的矩形状,
上述原料溶液喷出口、上述反应材料喷出口、以及上述非活性气体喷出口分别形成为俯视时以上述第1方向为长边方向的狭缝状。
4.如权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,
上述喷雾头部还具有从外部导入非活性气体的非活性气体供给部,上述非活性气体供给部与上述非活性气体喷出口连通,
上述非活性气体喷出口的开口面积为上述非活性气体供给部的开口面积以下。
5.如权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,
喷出上述非活性气体的流量分别为喷出上述原料溶液的流量及喷出上述反应材料的流量以下。
6.如权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,
上述喷雾头部具备从上述原料溶液喷出口进行上述原料溶液的喷射的原料溶液喷射用喷嘴部,
上述原料溶液喷射用喷嘴部包含:
第1空洞部;
原料溶液供给部,向上述第1空洞部内供给雾化后的上述原料溶液;
原料溶液排出部,在从上述第1空洞部的底面离开的位置设于上述第1空洞部内的侧面,并与上述原料溶液喷出口连接;以及
第1整流部,配设于上述第1空洞内,调整上述原料溶液的流动。
7.如权利要求6所述的成膜装置,其特征在于,
上述喷雾头部还具备反应材料喷射用喷嘴部,该反应材料喷射用喷嘴部与上述原料溶液喷射用喷嘴部沿着水平方向而配设,喷射上述反应材料。
8.如权利要求2所述的成膜装置,其特征在于,
上述喷雾头部具备:
原料溶液喷射用喷嘴部,从设于底面的上述原料溶液喷出口喷射上述原料溶液;
第1及第2反应材料喷射用喷嘴部,隔着上述原料溶液喷射用喷嘴部而配设,从设于底面的上述第1及第2反应材料喷出口喷射上述第1及第2反应材料;以及
第1及第2非活性气体喷射部,从设于底面的上述第1及第2非活性气体喷出口喷射非活性气体,
上述第1非活性气体喷射部设于上述原料溶液喷射用喷嘴部与上述第1反应材料喷射用喷嘴部之间,上述第2非活性气体喷射部设于上述原料溶液喷射用喷嘴部与上述第2反应材料喷射用喷嘴部之间。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的