[发明专利]用于基板的运输的设备、用于基板的真空处理的设备、和用于磁悬浮系统的维护的方法

说明书

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于基板的运输的设备、一种用于基板的真空处理的设备、和一种用于磁悬浮系统的维护的方法。本公开内容的实施方式特别涉及一种溅射沉积设备、和用于溅射沉积设备的非接触磁悬浮系统的维护的方法。

背景技术

用于基板上的层沉积的技术，包括例如热蒸发、溅射沉积、和化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)。溅射沉积工艺能够用于在基板上沉积材料层，例如绝缘材料的层。基板载体能够用于在沉积工艺(例如溅射沉积工艺)期间支撑基板。基板载体能够在真空腔室中使用运输系统进行运输，所述运输系统经构造以用于输送基板载体，所述基板载体具有位于基板载体上的基板。

运输系统可以提供在真空腔室内，并且因此定位于真空环境中。为了运输系统或运输系统的元件的维护、维修、和/或修理，真空腔室必须通风，以便能够接取运输系统。在维护、维修、和/或修理后，必须在真空腔室中重建真空。杂质(例如残留气体)必须从真空腔室中移除，以便获得合适真空条件，并且避免沉积层的污染。这种包括进行通风和重建真空的过程是耗时的，从而导致沉积设备有相当长的停机时间。

鉴于上述，存在对减少沉积设备的停机时间的用于基板的运输的新的设备、用于基板的真空处理的设备、和用于磁悬浮系统的维护的方法的需求。特别地需要有助于运输系统或运输系统元件的维护、维修、和/或修理的新的设备和其维护方法。

发明内容

鉴于上述情况，提供用于基板的运输的设备、用于基板的真空处理的设备、和用于磁悬浮系统的维护的方法。本公开内容的其他方面、优点、和特征，通过权利要求书、说明书、和所附附图变得显而易见。

根据本公开内容的一个方面，提供一种用于基板的运输的设备。所述设备包括真空腔室和磁悬浮系统，真空腔室具有经构造以将真空侧从大气侧分开的腔室壁，磁悬浮系统经构造以用于真空腔室中的基板载体的非接触悬浮。磁悬浮系统包括至少一个磁性装置和至少一个保持单元，所述至少一个磁性装置经构造以用于在真空腔室中的基板载体沿着运输路径的运输期间提供作用在基板载体上的磁力，所述至少一个保持单元经构造以保持所述至少一个磁性装置可从大气侧接取(access)。

根据本公开内容的另一方面，提供一种用于基板的真空处理的设备。所述设备包括真空腔室和磁悬浮系统，真空腔室具有经构造以将真空侧从大气侧分开的腔室壁，磁悬浮系统经构造以用于真空腔室中的基板载体的非接触悬浮。磁悬浮系统包括至少一个磁性装置和至少一个保持单元，所述至少一个磁性装置经构造以用于在真空腔室中的基板载体沿着运输路径的运输期间提供作用在基板载体上的磁力，所述至少一个保持单元经构造以保持所述至少一个磁性装置可从大气侧接取。所述设备进一步包括位于真空腔室中的一个或多个处理工具，其中所述一个或多个处理工具沿着运输路径布置。

根据本公开内容的又一方面，提供一种用于磁悬浮系统的维护的方法。所述磁悬浮系统经构造以用于真空腔室中的基板载体的非接触悬浮。所述方法包括从真空腔室的大气侧接取磁悬浮系统的由保持单元保持的至少一个磁性装置。

实施方式也针对了用于执行所公开的方法的设备，并且包括用于执行所描述的方法方面的设备部件。这些方法方面可以硬件元件、适当软件编程的计算机、上述二者的任意组合、或以任何其他方式执行。此外，根据本公开内容的实施方式也针对了用于操作所述设备的方法。用于操作所描述设备的方法包括用于执行设备的每个功能的方法方面。

附图说明

为了能够详细理解本公开内容上述特征的方式，可以参照实施方式得到在上文简单概括的本公开内容的更详细的描述。所附附图涉及本公开内容的实施方式，并且如下所述：

图1示出了根据本文描述的实施方式的用于基板的运输的设备的示意图。

图2示出了根据本文描述的另一实施方式的用于基板的运输的设备的示意图。

图3示出了根据本文描述的又一实施方式的用于基板的运输的设备的一部分的示意图。

图4示出了根据本文描述的另一实施方式的用于基板的运输的设备的一部分的示意图。

图5示出了根据本文描述的实施方式的用于基板上的层沉积的设备的示意图。

图6示出了根据本文描述的实施方式的用于磁悬浮系统的维护的方法的流程图。

具体实施方式