[发明专利]用于盖覆物体的方法以及由此生产的盖覆物有效

专利信息
申请号: 201580073689.3 申请日: 2015-11-03
公开(公告)号: CN107109640B 公开(公告)日: 2019-11-01
发明(设计)人: R·皮通耐克;A·科勒普;R·韦森巴彻 申请(专利权)人: 倍锐特有限责任公司
主分类号: C23C16/02 分类号: C23C16/02;C23C16/34;C23C16/455;C23C28/04;C23C30/00
代理公司: 北京嘉和天工知识产权代理事务所(普通合伙) 11269 代理人: 甘玲;缪策
地址: 奥地利*** 国省代码: 奥地利;AT
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摘要:
搜索关键词: 盖覆层 化学组成 立方结构 片层 气相沉积 铝前体 摩尔比 钛前体 邻接 施加 金属 生产 保留
【权利要求书】:

1.一种盖覆物体(1)的方法,其中具有一个或更多个盖覆层(3、4、5)的盖覆物(2)被施加于所述物体(1),其中至少一个盖覆层(5)由铝、钛和氮形成,其中至少在一些区域中,所述盖覆层(5)包括互相邻接的不同化学组成的片层,并且从具有至少一种铝前体和至少一种钛前体的气相沉积所述盖覆层(5),其特征在于,通过调整铝与钛的摩尔比,所述不同化学组成的片层各自形成立方结构,其中通过保存立方结构,铝和钛可以被其它金属部分地代替,并且氮可以被氧和/或碳部分地代替。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对于具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)的沉积,气相中的摩尔Al/Ti比被限于最大3.0。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述片层被沉积为具有小于20nm的片层周期性。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)被沉积为具有AlxTi1-xN的平均组成,并且从包含三氯化铝、四氯化钛和氨的气相沉积具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)被沉积为具有0.70≤x≤0.90的AlxTi1-xN的平均组成。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)在10mbar至80mbar的压力下被沉积。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)在750℃至850℃的温度下被沉积。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)被沉积为具有1μm至20μm的厚度。

9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)被外延地沉积。

10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,由硬质金属制成的物体(1)被盖覆。

11.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,多层盖覆物(2)被沉积在所述物体(1)上,其中作为第一盖覆层(3)的TiN结合层被沉积为具有小于1.0μm的厚度。

12.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)被沉积在TiCN盖覆层(4)上。

13.根据权利要求11或12所述的方法,其特征在于,在第一盖覆层(3)的沉积中和每个附加的盖覆层(4、5)的随后沉积中,沉积温度分别被降低或被保持。

14.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)借助于CVD法被沉积。

15.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,对于具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)的沉积,气相中的摩尔Al/Ti比被限于最大2.0。

16.根据权利要求15所述的方法,其特征在于,对于具有铝、钛和氮的所述至少一个盖覆层(5)的沉积,气相中的摩尔Al/Ti比被限于最大1.5。

17.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述片层被沉积为具有3nm至17nm的片层周期性。

18.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,所述片层被沉积为具有5nm至15nm的片层周期性。

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