[发明专利]用于制造物体的方法

权利要求书

1.一种使用计算机控制设备制造物体的方法，该设备具有用于选择性地沉积材料的沉积头，该沉积头邻近构建区域固定并且相对于该构建区域是可移动的，所述构建区域限定用于支撑物体的基底表面，所述沉积头是可操作的以响应于计算机指令来沉积所述材料，所述方法包括以下步骤：

通过所述设备接收与所述物体的几何相关的计算机指令；和

相对于所述基底表面移动所述沉积头，以及选择性地操作所述沉积头，以在所述构建区域中沉积彼此相邻并且彼此邻接的两个材料条，每个所述条对应于所述物体的几何的对应部分，并且具有第一部分和第二部分，该第二部分比第一部分更厚以限定不均匀的厚度，使得两个所述条具有互锁的互补几何，

其中，沉积每个条还包括调节该条的厚度的同时移动所述沉积头穿过所述基底表面。

2.根据权利要求1所述的制造物体的方法，其中，沉积所述两个条还包括将所述两个条之一的所述第二部分沉积为在至少一个方向上远离所述第一部分延伸的突起，并且将另一个条的第一部分制造为至少部分地接收该突起，从而互锁所述两个条。

3.根据权利要求2所述的制造物体的方法，其特征在于，沉积所述两个条还包括在水平方向上沉积待加宽的所述突起以及在垂直方向上沉积待加厚的另一突起。

4.根据权利要求1所述的制造物体的方法，其中，沉积所述两个条的步骤还包括将所述条中的一个沉积为与另一个条重叠并且与该另一个条成一定角度。

5.根据权利要求1所述的制造物体的方法，其中，沉积所述两个条的步骤还包括沉积所述条的彼此间隔开的两个分开的部分，以在它们之间限定空隙，并且沉积所述条中的一个条的第二部分还包括沉积延伸到空隙中的第二部分。

6.根据权利要求1所述的制造物体的方法，其中，沉积所述两个条中的至少一个还包括同时相对于该基底表面平行或垂直地移动沉积头。

7.根据权利要求6所述的制造物体的方法，其中，沉积所述两个条中的至少一个还包括同时以恒定速度移动所述沉积头，改变所述沉积头与所述基底表面之间的距离，并改变正在沉积的材料的体积率。

8.根据权利要求6所述的制造物体的方法，其中沉积所述两个条中的至少一个还包括同时以可变速度移动所述沉积头，改变所述沉积头与所述基底表面之间的距离，以及保持正在沉积的材料的体积率为常数。

9.根据权利要求6所述的制造物体的方法，其中所述沉积头还包括适于沉积材料的沉积喷嘴阵列，所述阵列中的至少一个喷嘴是可移动的，并且其中沉积所述两个条中的至少一个的步骤还包括移动至少一个喷嘴，使其与相邻喷嘴相比距所述基底表面更远，并且与相邻喷嘴间隔开。

10.根据权利要求6所述的制造物体的方法，其中，所述至少一个喷嘴相对于所述沉积头是可旋转的，并且其中，沉积所述两个条中的所述至少一个的步骤还包括将所述至少一个喷嘴旋转成与所述基底表面成角度。

11.根据权利要求1所述的制造物体的方法，其中，沉积所述两个条还包括在每个条上沉积至少一个起伏配合表面，该起伏配合表面是互补的，以互锁该两个条。

12.根据权利要求11所述的制造物体的方法，其中，在每个条上沉积至少一个起伏配合表面还包括沉积该起伏配合表面或每个起伏配合表面以对应于由计算机指令响应于输入参数产生的波形。

13.根据权利要求12所述的制造物体的方法，其中，所述产生波形还包括产生包括沿着母波布置的一个或多个子波的复合波，由此所述子波中的每一个和母波限定起伏几何。