[发明专利]组合的垫片和孔冷却组件

权利要求书

1.一种用于对磁共振成像设备的圆柱形超导磁体的背景磁场进行匀场的装置，所述装置包括圆柱形外部真空室孔管(1)，其中导轨(8、9)设置在所述圆柱形外部真空室孔管的径向内表面上，并且包含垫片元件的垫片托盘(4)被安装在相应的导轨之间，

其中由导轨(8、9)保持的垫片托盘(4)的多个布置围绕所述圆柱形外部真空室孔管(1)的所述径向内表面彼此相邻地被定位

-所述导轨(8、9)具有凹槽(12)，以容纳相应垫片托盘(4)的相应边缘；

-在每个垫片托盘(4)和相应的所述凹槽(11)中的至少一个凹槽之间提供过盈配合；

-其特征在于，所述导轨(8、9)中的至少一些导轨包括通路(13)，所述通路通过管道(14、20)连接到用于冷却剂流体循环通过其中的冷却剂回路中，

-所述导轨(8、9)和所述垫片托盘(4)至少部分地由导热材料构成，并且彼此热接触以及与所述圆柱形外部真空室孔管热接触，由此所述冷却剂流体用于稳定所述圆柱形外部真空室孔管、所述垫片托盘和所述垫片元件的温度，

其中所述垫片托盘(4)包括底部件(16)和固定到所述底部件的盖(18)，所述盖与所述导轨热接触，其中所述垫片托盘和所述导轨围绕所述圆柱形外部真空室孔管延伸，形成用于所述圆柱形外部真空室孔管的热屏蔽。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述垫片托盘能够沿所述导轨(8、9)滑动，并且提供固定装置以将所述垫片托盘沿所述导轨的长度保持在期望的位置。

3.根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其特征在于，至少一个垫片托盘(4)包括铁磁材料或顺磁材料。

4.根据权利要求1所述的装置，其中所述底部件(16)和所述盖(18)彼此热接触，使得所述底部件也与所述导轨热接触。

5.根据权利要求1、2和4中的任一项所述的装置，其中垫片托盘(4)的相应边缘各自具有侧向唇部(11)，所述凹槽(12)通过所述侧向唇部保持所述垫片托盘(4)。

6.根据权利要求1、2和4中的任一项所述的装置，其特征在于，所述导轨(8、9)中的至少一个导轨包括铁磁材料或顺磁材料。

7.根据权利要求1、2和4中的任一项所述的装置，其中所述冷却剂回路包括冷却器(26)。

8.根据权利要求1、2和4中的任一项所述的装置，其中所述冷却剂回路包括循环器(24)。

9.根据权利要求1、2和4中的任一项所述的装置，其中每个导轨(8、9)具有相应的凹槽(12)，每个凹槽保持两个相邻垫片托盘中的每个垫片托盘的相应边缘。

10.根据权利要求1、2和4中的任一项所述的装置，其中每个导轨(8、9)具有相应的凹槽(12)，每个凹槽保持两个相邻垫片托盘中的每个垫片托盘的相应的侧向唇部(11)。