[发明专利]清洗装置以及清洗方法

说明书

在桥式吊车和容器交接目的地之间，利用清洗气体对容器进行清洗。在桥式吊车的行走轨道的下方且为容器交接目的地的上方设置本地台车的行走轨道，以便供具备使容器升降的升降机的本地台车行走。在本地台车的行走轨道的下方、且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置能够自由地载置容器的清洗台，利用清洗气体供给装置朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。

技术领域

本发明涉及收纳半导体晶片等的容器的清洗。

背景技术

在半导体工厂中，将收纳半导体晶片的盒利用桥式吊车系统在处理装置的装载口间搬送。作为桥式吊车系统和装载口之间的暂时保管装置，申请人提出过在装载口与桥式吊车的行走轨道之间设置本地台车及其行走轨道以及暂存区的方案(专利文献1：JP5229363B)。在该装置中，盒在本地台车的行走轨道之间能够沿上下方向自由通过，在本地台车的行走轨道的下方设置暂存区，并使得桥式吊车和本地台车均能够访问该暂存区。因此，桥式吊车和本地台车均能够访问装载口和暂存区。

与此不同，公知有在对盒进行保管的储料器中设置清洗装置、利用N₂气体等对盒进行清洗的技术。然而，在储料器以外的场所无法进行清洗。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:JP5229363B

发明内容

发明所要解决的课题

在从处理装置朝下一处理装置搬送的过程中，若利用N₂气体等对容器进行清洗，则能够抑制晶片表面的氧化等。由此，针对朝下一处理装置的搬送时间的容许宽度增加。然而，若在处理装置内设置清洗装置，则将导致处理装置的较大程度的改造，因此这是不现实的。因此，在处理装置的附近需要盒的清洗装置。

本发明的课题在于提供一种能够在装载口等交接场所的附近对容器进行清洗的装置。

用于解决课题的手段

本发明的清洗装置在桥式吊车与容器交接目的地之间利用清洗气体对容器进行清洗，具备：

本地台车，行走自如且具备使容器升降的升降机；

本地台车的行走轨道，设置在桥式吊车的行走轨道的下方、且为容器交接目的地的上方；

清洗台，设置在本地台车的行走轨道的下方，且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置，能够自由地载置容器；以及

清洗气体供给装置，朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。

在本发明的清洗方法中，利用清洗装置，在桥式吊车和容器交接目的地之间，将容器暂时载置于清洗台，借助清洗气体供给装置而利用清洗气体对容器进行清洗，上述清洗装置具备：

本地台车，行走自如且具备使容器升降的升降机；

本地台车的行走轨道，设置在桥式吊车的行走轨道的下方、且为容器交接目的地的上方；

清洗台，设置在本地台车的行走轨道的下方，且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置，能够自由地载置容器；以及

清洗气体供给装置，朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。