[发明专利]极紫外线覆盖层及其的制造与光刻方法

权利要求书

1.一种制造极紫外线反射构件的方法，包含以下步骤：

提供基板；

在所述基板上形成多层堆叠，所述多层堆叠包括多个反射层对，所述多个反射层对具有第一反射层与第二反射层以形成布拉格反射器；以及

在所述多层堆叠上形成覆盖所述多层堆叠的覆盖层，所述覆盖层由钌钨形成，并且所述覆盖层通过减少氧化与机械侵蚀来保护所述多层堆叠。

2.如权利要求1所述的方法，其中形成所述多层堆叠的步骤包括：形成具有所述第一反射层的所述多层堆叠和形成所述第二反射层，所述第一反射层由4.1纳米厚的硅形成，所述第二反射层由2.8纳米厚的钼形成。

3.如权利要求1所述的方法，其中形成所述覆盖层的步骤包括：使用物理气相沉积形成所述覆盖层，以及形成厚度在20埃与50埃之间的所述覆盖层，并且所述覆盖层对极紫外线光是透明的。

4.如权利要求1所述的方法，其中形成所述覆盖层的步骤包括：形成具有5.5或更大的莫氏硬度的所述覆盖层。

5.如权利要求1所述的方法，其进一步包括以下步骤：在所述覆盖层上形成吸收层并覆盖所述覆盖层，所述吸收层由铬、钽、氮化物、镍或上述物质的组合形成。

6.如权利要求1所述的方法，其中形成所述覆盖层的步骤包括：形成具有小于0.2纳米均方根(RMS)的表面粗糙度的所述覆盖层。

7.一种极紫外线反射构件，包含：

基板；

多层堆叠，所述多层堆叠在所述基板上，所述多层堆叠包括多个反射层对，所述多个反射层对具有第一反射层与第二反射层；以及

覆盖层，所述覆盖层在所述多层堆叠上并覆盖所述多层堆叠，所述覆盖层由钌钨形成，并且所述覆盖层通过减少氧化与机械侵蚀来保护所述多层堆叠。

8.如权利要求7所述的极紫外线反射构件，其中所述多层堆叠包括由4.1纳米厚的硅形成的所述第一反射层和由2.8纳米厚的钼形成的所述第二反射层。

9.如权利要求7所述的极紫外线反射构件，其中所述覆盖层具有通过物理气相沉积形成的特性，所述覆盖层具有20埃与50埃之间的厚度，并且所述覆盖层对极紫外线光是透明的。

10.如权利要求7所述的极紫外线反射构件，其中所述覆盖层具有5.5或更大的莫氏硬度。

11.如权利要求7所述的极紫外线反射构件，其进一步包括：吸收层，所述吸收层在所述覆盖层上并覆盖所述覆盖层，所述吸收层由铬、钽、氮化物、镍或上述物质的组合形成。

12.如权利要求7所述的极紫外线反射构件，其中所述覆盖层具有小于0.2纳米均方根(RMS)的表面粗糙度。

13.一种极紫外线反射构件生产系统，包含：

第一沉积系统，所述第一沉积系统用于在基板上沉积多层堆叠，所述多层堆叠包括多个反射层对，所述反射层对具有第一反射层与第二反射层；以及

第二沉积系统，所述第二沉积系统用于在所述多层堆叠上形成覆盖层，所述覆盖层由钌钨形成。

14.如请求项13所述的极紫外线反射构件生产系统，其中所述第一沉积系统用于形成由4.1纳米厚的硅形成的所述第一反射层和由2.8纳米厚的钼形成的所述第二反射层。

15.如权利要求13所述的极紫外线反射构件生产系统，其中所述第二沉积系统用于使用物理气相沉积形成所述覆盖层，所述覆盖层具有20埃与50埃之间的厚度，并且所述覆盖层对极紫外线光是透明的。

16.如权利要求13所述的极紫外线反射构件生产系统，其中所述第二沉积系统用于形成具有5.5或更大的莫氏硬度的所述覆盖层。

17.如权利要求13所述的极紫外线反射构件生产系统，其中所述第二沉积系统用于形成具有小于0.2纳米均方根(RMS)的表面粗糙度的所述覆盖层。