[实用新型]蒸镀机的喷嘴系统

说明书

技术领域

本申请涉及PVD(PhysicalVaporDeposition)领域，尤其涉及一种蒸镀机的 喷嘴系统。

背景技术

真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内蒸发材料的 原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。

蒸发镀膜是通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面的一种真空镀膜 技术。蒸发材料如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源。待镀 工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待坩埚抽至高真空后，加热 坩埚使其中的蒸发材料进而从喷嘴喷出。蒸发材料的原子或分子以冷凝方式沉 积在基片表面。

如图1和图2所述为一种蒸镀机的喷嘴系统的示意图。

线源21作为蒸发材料收纳于坩埚12内。待坩埚12抽至高真空后，加热 器13加热坩埚12使线源21蒸发进而从喷嘴11喷出，线源21的原子或分子 以冷凝的方式沉积在待镀工件表面。

在实现现有技术过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：

坩埚12局部加热不均匀时，或者，由于喷嘴11设置的倾斜角度不合理时， 导致喷嘴11内蒸发材料分布不均匀，容易导致喷嘴11堵塞。当碰嘴11堵塞 时，需要先降低坩埚12的温度以免烫伤操作人员。接着，需要破除坩埚12内 的真空，否则由于坩埚12内外气压差，不易除去喷嘴11内的堵塞。破除真空 时，有大量保持真空的氮气逸出，因此，需要等待氮气完全逸出后，才能采取 去除堵塞的动作，否则容易导致操作人员窒息。去除堵塞后，需要抽取坩埚 12内空气，保持坩埚12内真空环境，然后，加热使得坩埚12升温以便蒸发 材料蒸发从而开始工作。从坩埚12降温、破除真空、去除堵塞、抽真空、坩 埚12升温完成整个堵塞去除的时间较长。

因此，需要提供一种解决喷嘴11堵塞处理时间长的技术问题的技术方案。

实用新型内容

本申请实施例提供一种解决喷嘴堵塞处理时间长的技术问题的蒸镀机的 喷嘴系统。

具体的，一种蒸镀机的喷嘴系统，包括：

具有用于收容蒸镀材料的容纳腔的载具；

布设于载具周围的用于加热蒸镀材料的加热器；

安装于载具并用于供蒸镀材料从载具中喷出的喷嘴；

安装于容纳腔内的气压传感器；

布设于喷嘴周围、用于熔融喷嘴内堵塞的蒸镀材料的、受气压传感器控制 电路通断的防堵塞加热器。

优选的，所述载具为坩埚；

所述坩埚包括坩埚主体和坩埚盖；

所述气压传感器安装于坩埚盖内壁。

优选的，所述蒸镀机的喷嘴系统还包括逻辑控制器；

所述气压传感器和防堵塞加热器与逻辑控制器电性连接，并受逻辑控制器 控制。

优选的，所述蒸镀机的喷嘴系统还包括报警器；

所述报警器与逻辑控制器电性连接，用于在气压超过预设阈值时发出警报。

优选的，所述载具具有初始状态位置和工作状态位置；

载具的位置由逻辑控制器控制；

当发生堵塞时，逻辑控制器将载具从工作状态位置复位到初始状态位置。

优选的，所述防堵塞加热器为电阻加热、感应加热、电弧加热、电子束加 热、红外线加热和介质加热中的至少一种。

优选的，所述防堵塞加热器为电阻线圈；

所述电阻线圈缠绕于喷嘴周围。

优选的，所述气压传感器的耐高温指标高于400℃。

本申请实施例提供的蒸镀机的喷嘴系统，至少具有如下有益效果：

当喷嘴发生堵塞时，气压传感器控制防堵塞加热器熔融喷嘴内堵塞的蒸镀 材料，从而可以解决喷嘴堵塞处理时间长的技术问题。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分， 本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限 定。在附图中：

图1为本申请实施例改进前的喷嘴系统示意图。

图2为图1的剖视图。

图3为本申请实施例提供的喷嘴系统示意图。

具体实施方式