[实用新型]一种运载料装置以及密闭设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及制程设备技术领域，特别涉及一种运载料装置以及密闭 设备。

背景技术

在镀膜过程中，为了避免蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中与空 气分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发原材料间的化学反应(如氧化 等)，以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，提高膜层的 致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力，一般需要在密闭设备中进行。

现有技术中，密闭设备一般具有密闭腔室，并在密闭腔室中设置一可旋 转载台以承载待加工的料片，当待加工的料片加工处理完成后，作业员会直 接打开密闭腔室，取出料片并送入下一道制程。但由于镀膜材料的特性不同， 有些材料在开腔取片的时候，就会受到空气中氧气的影响，而发生化学特性 的转变，影响产品性能。

因此，如何提供一种保护装置，使其在保证制程效果的同时，能够保护 料片在送入下一道制程过程中不被氧化，进而保证产品性能，成为本领域技 术人员亟待解决的重要技术问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种运载料装置以及密闭设备，以达到使 其在保证制程效果的同时，能够保护料片在送入下一道制程过程中不被氧化， 进而保证产品性能的目的。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案：

一种运载料装置，包括：

载台，所述载台上具有复数个数量相同且相互间隔设置的第一工位以及 第二工位，其中，所述第一工位用于放置载料盘，所述第二工位用于放置承 载单元，所述载料盘能够与所述承载单元配合形成用于容纳料片的密闭空间；

吸附装置，设置于所述载台的上方，所述吸附装置用于从所述第一工位 吸附所述载料盘并将所述载料盘放置于所述第二工位上的所述承载单元上， 以使所述载料盘与所述承载单元配合形成密闭空间。

优选的，还包括第一驱动组件，所述载台在所述第一驱动组件的驱动下 转动，所述第一驱动组件包括第一驱动器、转动件以及传动件，所述转动件 与所述载台同轴设置，所述转动件的第一端与所述载台连接，第二端通过所 述传动件与所述第一驱动器的输出端连接，其中，所述第一驱动器通过所述 传动件以驱动所述转动件进行转动。

优选的，所述传动件为同步带，所述转动件的第二端与所述第一驱动器 的输出端均设置有与所述同步带配合的同步轮。

优选的，还包括第二驱动组件，所述吸附装置在所述第二驱动组件的驱 动下相对于所述载台升降，所述第二驱动组件包括：

第二驱动器；

丝杆，相对于所述载台竖直设置并在所述第二驱动器驱动下旋转；

滑杆，与所述丝杆平行设置，所述滑杆的第一端与所述丝杆连接，所述 滑杆的第二端连接有所述吸附装置；

其中，所述第二驱动器通过驱动所述丝杆正转或者反转以使所述滑杆上 升或者下降。

优选的，所述吸附装置采用真空吸附或者电磁吸附。

优选的，所述载料盘包括上盖以及中间部；所述中间部呈环形，其内壁 上设置有用于放置料片的环形台阶面；所述上盖下表面与所述中间部上表面 之间设置有第一密封装置。

优选的，所述承载单元呈圆盘状，其上表面上设置有环形槽，所述环形 槽内设置有用于密封所述承载单元与所述中间部接触面的第二密封装置。

优选的，所述承载单元上设置有至少两个与所述承载单元的轴向平行且 围绕所述承载单元的轴线均匀分布的定位杆，所述上盖上与所述定位杆对应 的位置上设置有定位件，所述定位件上开设有用于与所述定位杆配合的定位 通孔，所述定位杆与所述定位通孔配合使所述载料盘与所述承载单元定位配 合。

优选的，所述承载单元上设置有限位凹槽，所述中间部的下表面上设置 有环形凸起，所述环形凸起外侧壁与所述限位凹槽的内侧壁配合使所述载料 盘与所述承载单元扣合在一起。

一种密闭设备，包括密闭腔室以及设置于所述密闭腔室中的运载料装置， 所述运载料装置为如上任一项所述的运载料装置。