[实用新型]用于硅片的等离子体制绒装置

权利要求书

1.一种用于硅片的等离子体制绒装置，包括波导谐振腔(1)和反应腔室(11)，所述波导谐振腔(1)的出口处设置有等离子体激发区(4)，其特征在于，所述等离子体激发区(4)设于扫描矩管(3)中，所述扫描矩管(3)贯穿伸入到反应腔室(11)中，所述反应腔室(11)中设有用于放置硅片的托盘单元(5)，所述托盘单元(5)设于运动载台(12)上。

2.如权利要求1所述的用于硅片的等离子体制绒装置，其特征在于，所述扫描矩管(3)包括矩形管外芯(9)和矩形管内芯(10)，所述等离子体激发区(4)设于矩形管内芯(10)中，所述矩形管内芯(10)的一端连接进气管(2)，另一端为等离子体喷出口，所述矩形管外芯(9)上开设有真空抽气口(8)。

3.如权利要求2所述的用于硅片的等离子体制绒装置，其特征在于，所述等离子体喷出口大致为矩形状，宽度范围为5～50mm，所述矩形管外芯(9)和矩形管内芯(10)之间的间隙为3～10mm。

4.如权利要求1所述的用于硅片的等离子体制绒装置，其特征在于，所述运动载台(12)为传输皮带或传输轨道，所述传输皮带或传输轨道下方设有滚动轮(7)。

5.如权利要求4所述的用于硅片的等离子体制绒装置，其特征在于，所述运动载台(12)的运动速率为0.1m/min。

6.如权利要求1所述的用于硅片的等离子体制绒装置，其特征在于，所述托盘单元(5)的数目为多个，所述多个托盘单元(5)按矩阵行列排列，相邻两排托盘单元(5)之间采用活动连接轴(51)链接，每排托盘单元(5)内放置2～5片硅片，每排托盘单元(5)之间具有10～50mm的间隙，所述托盘单元(5)底部设有定位导轨(6)。