[发明专利]具有过渡结合层的聚酰亚胺覆金属薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种具有过渡结合层的聚酰亚胺覆金属薄膜，其特征在于：包括聚酰亚胺基膜层和沉积于聚酰亚胺基膜层上的Cr过渡层以及形成于过渡层上的铜晶粒层，所述聚酰亚胺基膜层与过渡层之间为调节层，所述调节层为有机硅油；

所述Cr过渡层厚度为5-10μm；所述聚酰亚胺基膜层的厚度为100-150μm，所述调节层的厚度为0.5-1μm；

所述的具有过渡结合层的聚酰亚胺覆金属薄膜的制备方法，包括以下步骤：在聚酰亚胺基膜层至少一面形成调节层；然后在调节层表面形成过渡层；在过渡层的表面形成铜晶粒层；

采用直流/射频磁控溅射镀膜设备，在靶材为1个磁控金属Cr靶，真空室本底真空度为1.0×10^-4Pa，工作气氛为Ar，工作真空度为0.4-0.8Pa；

磁控金属Cr靶溅射功率为直流85-100W；沉积时间为20-30分钟的条件下在聚酰亚胺基膜层表面预先沉积金属Cr过渡层。

2.根据权利要求1所述的具有过渡结合层的聚酰亚胺覆金属薄膜，其特征在于：所述机硅油为聚醚改性硅油、羟基硅油和氨基硅油中的一种。

3.根据权利要求1所述的具有过渡结合层的聚酰亚胺覆金属薄膜，其特征在于：工作真空度为0.6Pa；磁控金属Cr靶溅射功率为直流90W；沉积时间为25分钟。

4.根据权利要求3所述的具有过渡结合层的聚酰亚胺覆金属薄膜，其特征在于：通过DC磁控管方式在氩气环境0.5Pa下以溅射的方式形成铜晶粒层。