[发明专利]量子点彩膜基板的制作方法

权利要求书

1.一种量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供一衬底基板(11)，在所述衬底基板(11)上涂布形成一层黑色光刻胶层(12)，对所述黑色光刻胶层(12)进行真空干燥及预烘烤，以除去所述黑色光刻胶层(12)中的部分溶剂；

步骤2、在所述黑色光刻胶层(12)上涂布形成一层透明光刻胶层(13)；

步骤3、提供掩模板(50)，所述掩模板(50)上具有数个不同灰度的第一、第二、第三图形(51、52、53)，采用紫外光通过掩模板(50)对所述透明光刻胶层(13)进行曝光；

步骤4、对所述黑色光刻胶层(12)及透明光刻胶层(13)进行显影制程，得到属于所述透明光刻胶层(13)的对应所述第一图形(51)的数条透明挡墙(131)、对应所述第二图形(52)且位于所述透明挡墙(131)上的数个辅助间隔物(132)、及对应所述第三图形(53)且位于所述透明挡墙(131)上的数个主间隔物(133)，同时得到属于所述黑色光刻胶层(12)的被所述数条透明挡墙(131)所覆盖的数条黑色挡墙(121)；

其中，所述主间隔物(133)的高度大于所述辅助间隔物(132)的高度；

所述数条黑色挡墙(121)、及其上的数条透明挡墙(131)构成数条像素挡墙(100)，在所述衬底基板(11)上围出数个红色子像素区域、数个绿色子像素区域、及数个蓝色子像素区域；

步骤5、对所述黑色挡墙(121)、透明挡墙(131)、辅助间隔物(132)、及主间隔物(133)进行烘烤，以除去其中大部分溶剂，增强其固化程度和附着力；

步骤6、在所述衬底基板(11)上对应所述红色、绿色、及蓝色子像素区域采用喷墨打印的方式分别形成图形化的红色、绿色、及蓝色量子点层(141、142、143)。

2.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤1中，通过狭缝涂布或旋转涂布的方式形成所述黑色光刻胶层(12)，所述黑色光刻胶层(12)的厚度为0.5～2μm。

3.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤2中，通过狭缝涂布或旋转涂布的方式形成所述透明光刻胶层(13)，所述透明光刻胶层(13)的厚度为0.5～5μm。

4.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述透明光刻胶层(13)的材料及黑色光刻胶层(12)中的光刻胶成分为正型光刻胶，所述掩膜板(50)上第一、第二、第三图形(51、52、53)的光透过率依次降低。

5.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述透明光刻胶层(13)的材料及黑色光刻胶层(12)中的光刻胶成分为负型光刻胶，所述掩膜板(50)上第三、第二、第一图形(53、52、51)的光透过率依次降低。

6.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤1中提供的衬底基板(11)为TFT阵列基板，所述衬底基板(11)上设有TFT阵列。

7.如权利要求6所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤6中得到量子点彩膜基板用于液晶显示装置中；

所述液晶显示装置包括液晶显示面板、及位于液晶显示面板下方的背光模组；所述液晶显示面板包括上基板、位于所述上基板下方的下基板、位于所述上、下基板之间的液晶层、上偏光片、及下偏光片；

所述量子点彩膜基板用作液晶显示面板的下基板，所述下偏光片设置于所述下基板上靠近所述液晶层的一侧。

8.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤6中得到量子点彩膜基板用于液晶显示装置中；

所述液晶显示装置包括液晶显示面板、及位于液晶显示面板下方的背光模组；所述液晶显示面板包括上基板、位于所述上基板下方的下基板、位于所述上、下基板之间的液晶层、上偏光片、及下偏光片；

所述下基板为TFT阵列基板，所述量子点彩膜基板用作液晶显示面板的上基板，所述上偏光片设置于所述上基板上靠近所述液晶层的一侧。

9.如权利要求8所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述下偏光片设置于所述下基板上远离所述液晶层的一侧。

10.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤6中，所述红色、绿色、及蓝色量子点层(141、142、143)由分别包含红色量子点、绿色量子点、及蓝色量子点的量子点油墨所形成。