[发明专利]一种NiO:Cu/TiOx异质pn结二极管在审

专利信息
申请号: 201510635334.0 申请日: 2015-09-30
公开(公告)号: CN105118868A 公开(公告)日: 2015-12-02
发明(设计)人: 李彤;王铁钢;倪晓昌 申请(专利权)人: 天津职业技术师范大学
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L21/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300222 天*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 nio cu tiox 异质 pn 二极管
【权利要求书】:

1.一种NiO:Cu/TiOx异质pn结二极管,至少包括pn结和欧姆接触电极,其特征在于:所述pn结是由p型NiO:Cu薄膜和n型TiOx薄膜而得到的异质pn结。

2.权利要求1所述NiO:Cu/TiOx异质pn结二极管的制备方法,其特征在于:用磁控溅射工艺在Si衬底上制备NiO:Cu薄膜和TiOx薄膜形成异质pn结。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:本发明采用NiO:CuO陶瓷靶,磁控溅射工艺制备NiO:Cu薄膜,在此采用氧分压O2/(O2+Ar)=0%-100%。

4.溅射前的腔体本底真空度优于3x10-4Pa,溅射气压为0.5-2Pa,溅射功率为100-200W。

5.镀膜时间均为20-120min,衬底温度从RT变化至600oC,退火温度从200oC变化至700oC。

6.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:本发明采用TiO2陶瓷靶,磁控溅射工艺制备TiOx薄膜,在此采用氧分压O2/(O2+Ar)=0%-100%。

7.溅射前的腔体本底真空度优于3x10-4Pa,溅射气压为0.5-2Pa,溅射功率为50-200W。

8.镀膜时间均为20-120min,衬底温度从RT变化至600oC,退火温度从200oC变化至700oC。

9.权利要求1或2或3或6所述NiO:Cu/TiOx异质pn结二极管的制备方法,其特征在于:采用溅射法或热蒸发法在pn结上制作电极;其中,NiO:Cu和TiOx表面沉积银,镍,铝或金电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津职业技术师范大学,未经天津职业技术师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510635334.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top