[发明专利]一种具有交替结构的有机硅树脂的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510191241.3 申请日: 2015-04-21
公开(公告)号: CN104817698B 公开(公告)日: 2018-08-07
发明(设计)人: 郑耀臣;高正国;薛清泉 申请(专利权)人: 烟台大学
主分类号: C08G75/045 分类号: C08G75/045
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 邱启旺
地址: 264005 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 交替结构 有机硅树脂 分子结构 制备 氮气 二硫醇化合物 有机硅化合物 自由基引发剂 玻璃化转变 光敏自由基 乙烯基聚合 织物处理剂 紫外光照射 材质要求 加热条件 耐磨涂层 双乙烯基 杂化树脂 折光指数 质地柔软 氩气保护 对设备 多羟基 副产物 硫醚键 硫原子 耐腐蚀 去保护 引发剂 有机硅 可控 热敏 水解 巯基 羟基 涂料 清晰
【说明书】:

发明公开了一种具有交替结构的有机硅树脂的制备方法。该方法是在氮气或氩气保护下,热敏自由基引发剂在加热条件下或光敏自由基引发剂在紫外光照射条件下,引发二硫醇化合物与含双乙烯基有机硅化合物进行巯基‑乙烯基聚合反应,得到具有交替结构的多羟基有机硅杂化树脂。本发明无需水解、干燥、保护‑去保护过程、反应速率高、产物的结构清晰可控、羟基的含量容易调节、不产生副产物、对设备材质要求低等优点。同时,其分子结构中含有大量硫原子,能明显提高材料的折光指数,另外,分子结构中含有大量的硫醚键,产物的玻璃化转变温度低(小于‑20℃),质地柔软,也非常适合做织物处理剂及高性能耐腐蚀涂料或耐磨涂层。

技术领域

本发明涉及一种具有交替结构的多羟基有机硅树脂的制备方法,尤其涉及一种含硫醚键的多羟基有机硅杂化聚合物的合成方法。

背景技术

传统的含羟基有机硅树脂是由一种或多种氯硅烷水解的方法合成的,具有良好的耐高、低温性能,耐腐蚀性能、耐老化性能、低表面能等优异性能,而常用作聚氨酯、环氧树脂等的改性材料。目前,含羟基的有机硅树脂改性材料,已经广泛用于耐腐蚀涂料、织物处理材料及有机发光二极管(OLED)的封装材料等。

用氯硅烷水解法制备羟基有机硅树脂,需要使用甲苯等有毒溶剂,反应结束后要进行水洗、干燥、整除溶剂等辅助工序。同时生产过程中会产生大量酸性废水,对设备和环境带来很大危害。另外,由于氯硅烷具有非常高的反应活性,导致含羟基硅树脂的分子结构很难控制。

本发明是基于巯基-烯加成的反应机理,选择含羟基的二硫醇与二乙烯基封端的有机硅单体进行加成聚合反应,得到具有交替结构的含羟基的有机硅杂化树脂。本发明具有反应速率高、产物的结构清晰可控、不产生副产物、对设备材质要求低等优点。同时,其分子结构中含有大量硫原子,能明显提高材料的折光指数,本发明特别适合用于OLED封装材料;另外,分子结构中含有大量的硫醚键,产物的玻璃化转变温度低(小于-20)℃,质地柔软,也非常适合做织物处理剂及高性能耐腐蚀涂料或耐磨涂层。

发明内容

本发明的目的之一是克服现有含羟基有机硅聚合物合成方法上的不足,提供一种具有交替结构的多羟基有机硅杂化聚合物的合成方法。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的:一种具有交替结构的多羟基有机硅杂化基聚合物的合成方法,该方法具体为:

氮气或氩气保护下,在反应器中依次加入1份的物质A、0~10份溶剂、0.9~1.1份的物质B、0.002-0.020份的光敏自由基引发剂或热敏性自由基引发剂;紫外光照射0.5~4.0小时或在40-90℃下反应0.5-24小时,经沉淀、分离、干燥得到多羟基有机硅杂化聚合物,上述份数为摩尔份数。

所述物质A由1,3-丙二硫醇、1,4-丁二硫醇、1,5-戊二硫醇、1,6-己二硫醇、1,8-辛二硫醇、3,6-二氧杂-1,8-辛烷二硫醇、双(2-巯基乙基)醚、双(3-巯基丙酸)丁二醇中的一种或几种与2,3-二巯基-1-丙醇或1,4-二巯基苏糖醇按照任意配比混合组成。

所述物质B由四甲基二乙烯基硅烷、二甲基二乙烯基硅烷、四甲基二乙烯基硅氮烷与物质C组成的混合物。

所述物质C由二乙烯基苯、N,N-亚甲基双丙烯酰胺、乙二醇双(甲基)丙烯酸酯、丙二醇双(甲基)丙烯酸酯、丁二醇双(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇双(甲基)丙烯酸酯、己二醇双(甲基)丙烯酸酯、聚醚二元醇双(甲基)丙烯酸酯、聚酯二元醇双(甲基)丙烯酸酯中的一种或几种按照任意配比混合组成。

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