[发明专利]像素结构以及显示面板有效

专利信息
申请号: 201510151323.5 申请日: 2015-04-01
公开(公告)号: CN104698697B 公开(公告)日: 2018-04-27
发明(设计)人: 李益志;叶昭纬;古正彬;郑伟成;丁天伦;林贞君 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1362
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 梁挥,祁建国
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 像素 结构 以及 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种像素结构,其特征在于,包括:

一基板,具有一表面;

一绝缘层,配置于该基板上而定义出一第一区以及一第二区且该第二区围绕在该第一区周边,其中该第一区具有一第一区顶面而该第二区具有一第二区顶面,且该第一区顶面至该表面的一第一距离小于该第二区顶面至该表面的一第二距离;以及

一像素电极,配置于该基板上,且该像素电极的至少部分面积由该第一区顶面连续地延伸至该第二区顶面,其中该像素电极具有一主干开口以及连通于该主干开口的多个狭缝开口,该主干开口沿十字形轨迹分布以划分出多个配向区,同一个配向区中的所述狭缝开口彼此平行而在相邻两个狭缝开口之间定义出该像素电极的一个条纹部,且该十字形轨迹的交叉处位于该第一区中;

该第一区顶面与该第二区顶面的交界沿着一几何图案的轮廓分布。

2.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,位于各该配向区的其中一条条纹部朝向该主干开口延伸出去而连接相邻的配向区的其中一条条纹部。

3.根据权利要求2所述的像素结构,其特征在于,该像素电极更包括多个主干连接部,位于该主干开口中,以将各该配向区朝向该主干开口延伸出去的该其中一条条纹部连接至该相邻的配向区的该其中一条条纹部。

4.根据权利要求3所述的像素结构,其特征在于,所述主干连接部不重叠该十字形轨迹的交叉处。

5.根据权利要求2所述的像素结构,其特征在于,所述条纹部重叠于该第一区顶面与该第二区顶面的交界。

6.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,该像素电极更包括一周边连接部,部分位于该第一区中且部分位于该第二区中,且所述条纹部由该主干开口向外延伸而连接至该周边连接部。

7.根据权利要求6所述的像素结构,其特征在于,该周边连接部具有环形图案而所述条纹部位于该环形图案所环绕的面积内。

8.根据权利要求6所述的像素结构,其特征在于,所述周边连接部由多个间隙分隔成多段且各该间隙位于该主干开口的末端。

9.根据权利要求6所述的像素结构,其特征在于,该周边连接部的外轮廓为方形。

10.根据权利要求9所述的像素结构,其特征在于,该像素电极更包括角落图案部设置于该周边连接部所构成的该方形的角落。

11.根据权利要求6所述的像素结构,其特征在于,该周边连接部的外轮廓实质上顺应着该第一区顶面与该第二区顶面的交界。

12.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,该几何图案为方形图案。

13.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,该几何图案在一第一方向上的宽度是由中央向外逐渐缩小,且在一第二方向上的宽度是由中央向外逐渐缩小,而该第一方向与该第二方向垂直。

14.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,该第一区的面积具有一中心部以及由该中心部向外延伸出去的多个凸出部,且所述凸出部的延伸轨迹朝向该第一区的中心延伸时将该中心部划分成多个配向区。

15.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,该绝缘层在该第一区的厚度小于在该第二区的厚度。

16.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,该第一距离与该第二距离的差介于0.3微米至0.9微米之间。

17.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于,该第一区与该第二区之间存在一交界区,该交界区具有连接于该第一区顶面与该第二区顶面之间的一倾斜面,该倾斜面与该基板的该表面的夹角大于80度。

18.一种显示面板,其特征在于,包括:

多个如权利要求1至17项中任一项所述的像素结构;以及

一液晶层,该液晶层的液晶分子由所述像素结构驱动,且在所述像素结构驱动下,所述液晶分子皆向该第二区倾倒。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510151323.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top