[发明专利]显示基板及显示面板的制作方法

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

利用构图工艺形成遮光板，所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层；

将所述遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上的投影区域大于所述有源层的覆盖范围。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用构图工艺形成遮光板，具体包括：

在透明的衬底基板上沉积一金属层；

在所述金属层上涂覆一层光刻胶，利用与所述有源层匹配的有源层掩膜板形成与所述有源层相匹配的遮光层。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在进行光配向之前，所述方法还包括：

利用构图工艺制作包括衬底基板、栅极、栅绝缘层、有源层、信号线层、信号线绝缘层和像素电极的阵列基板。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，制作所述遮光层的材料与制作栅极或/和信号线层的材料相同。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，采用线偏极紫外光进行光配向。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在完成对阵列基板侧的配向膜进行光配向后，将所述遮光板从阵列基板上方移除。

7.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

利用构图工艺制作彩膜基板和阵列基板；

在阵列基板的上方、面向彩膜基板的一侧制作阵列基板侧的配向膜；

在彩膜基板下方、面向阵列基板的一侧制作彩膜基板侧的配向膜；

将遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上的投影区域大于所述有源层的覆盖范围；所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层；

对彩膜基板侧的配向膜进行光配向；

对阵列基板和彩膜基板进行对盒。