[发明专利]用于处理激光的设备

说明书

本发明内容涉及一种用于处理激光的设备，且更明确地说，涉及一种用于驱动激光辐照器以用于将激光辐照到衬底上、转换激光振荡模式时防止激光质量恶化的激光处理设备。用于处理激光的设备包含：操作脉冲产生部件，其经设置以产生用于在辐照激光的操作状态中振荡激光的操作脉冲；备用脉冲产生部件，其经设置以产生用于在尚未辐照激光的备用状态中振荡激光的备用脉冲；切换部件，其经设置以选择操作脉冲和备用脉冲中的一者以将选定脉冲提供到激光辐照器；和相对移动模块驱动部件，其经设置以控制切换部件使得当未检测到平台或激光辐照器的移动时将备用脉冲提供到激光辐照器，且当检测到平台或激光辐照器的移动时将操作脉冲提供到激光辐照器。

技术领域

本发明内容涉及一种用于处理激光的设备，且更明确地说，涉及一种用于驱动激光辐照器以用于将激光辐照到衬底上的激光处理设备。

背景技术

当在薄膜沉积在大型衬底上之后执行退火时，难以确保在衬底上的均匀性。因此，正建议各种替代方案，其中的一者为使用激光的退火方法。

图1为用于解释根据现有技术的激光热处理设备的示意图。参看图1，将石英窗20安置在反应室10的顶表面中，且将激光辐照器40安置在石英窗20上方。从激光辐照器40输出的激光41穿过石英窗20且辐照到衬底W(例如，反应室10中之芯片)上。

图2(a)及图2(b)为用于解释在图1中使用的激光41或激光束的视图，图2(a)为当从上方检视时的衬底的视图，且图2(b)为衬底的透视图。参看图2(a)及图2(b)，在激光垂直于衬底或相对于衬底稍微倾斜的状态中，激光41按帘幕形状线性辐照。衬底W在垂直于激光41的表面或相对于激光41的表面稍微倾斜的方向上水平移动，以允许激光41辐照到衬底W的整个表面上。

图3(a)及图3(b)为在内部模式和外部模式中操作的激光辐照器的视图。即使激光辐照器未辐照激光，仍必须将激光辐照器维持在为备用状态的预热状态中。这是因为仅当在辐照激光之前将激光辐照器维持在预热备用状态中时，激光辐照器才会辐照具有均匀能量分布的稳定激光。

即使激光并未实际上辐照到外面，激光振荡仍在激光辐照器中持续发生，以便维持激光辐照器的预热备用状态。为此，当将激光辐照器维持在备用状态中时，其在如图3(a)中所说明的内部模式中操作，以自身产生具有方波波形的脉冲(内部脉冲)，且接着通过使用内部脉冲产生振荡脉冲，由此在备用状态中振荡激光。

在备用状态中，当必须实际上执行激光发射时，从外部装置提供用以振荡激光发射的脉冲(外部脉冲)。此处，激光发射表示激光经振荡且辐照的时刻。例如，可针对振荡脉冲的每一上升时刻执行激光发射。因此，振荡脉冲的周期减小得越多，那么激光发射的周期减小得越多。相反地，振荡脉冲的周期增加得越多，那么激光发射的周期增加得越多。

类似地，当必须实际上辐照激光时，激光辐照器的模式被转换成外部模式以从外面接收外部脉冲(通过外部脉冲来确定激光发射的周期)以产生振荡脉冲。然而，当将外部模式转换成内部模式以从外部装置接收外部脉冲(由此将接收的外部脉冲用作振荡脉冲)时，归因于突然的模式转换，可产生振荡脉冲的不稳定波形，且因此辐照的激光发射可损失能量。同样，在内部模式转换成外部模式时，发生外部脉冲的输入延迟，且因此激光未辐照到衬底的所要的位置上。

[现有技术文件]

(专利文件1)韩国专利公开案第10-2011-0070265号

发明内容

本发明内容提供一种用于当转换激光振荡模式时防止激光在质量上恶化的激光处理设备。本发明内容还提供一种用于当转换激光振荡模式时防止振荡脉冲受到延迟的激光处理设备。本发明内容还提供用于使激光辐照器仅在外部模式中操作的单元。