[发明专利]用于清洁物体的系统和方法有效
| 申请号: | 201480080879.3 | 申请日: | 2014-06-05 |
| 公开(公告)号: | CN106660078B | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
| 发明(设计)人: | 罗里·A·沃尔夫;斯蒂芬·弗兰克·米切尔;希拉·汉密尔顿 | 申请(专利权)人: | 伊利诺斯工具制品有限公司 |
| 主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;B08B1/00 |
| 代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 脱颖 |
| 地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 清洁 物体 系统 方法 | ||
一种用于清洁物体(12)的系统(10)包括辊清洁器(14),所述辊清洁器(14)具有可旋转的弹性辊(20)、可旋转的粘合辊(22)和支持物(24),所述可旋转的弹性辊(20)具有被配置成接触所述物体(12)的第一表面的圆柱形的外表面,所述可旋转的粘合辊(22)具有接触所述弹性辊(20)的所述外表面的一部分的圆柱形的外表面。所述物体(12)在所述弹性辊(20)和所述支持物(24)之间通过,所述支持物(24)接触相对的第二物体表面。常压等离子体清洁器(16)包括密封室(32)和至少一个电极(34),所述至少一个电极(34)被设置在所述室(32)中并且接收高电压以产生施加到第一物体表面的等离子体。所述等离子体清洁器(16)的进口的至少一部分由所述弹性辊(20)和所述支持物(24)形成,并且所述物体(12)的第一表面和第二表面与所述弹性辊(20)和所述支持物(24)的接触密封所述等离子体清洁器(16)的所述进口。
技术领域
本发明的实施例总体涉及用于清洁物体的表面的系统,并且更具体地涉及从所述物体的表面清除有机污染物和无机污染物两者的系统。
背景技术
在制造中,出于各种原因,许多部件在组装之前需要进行清洁。例如,可用于电视机、监视器、平板电脑、电话等的液晶显示器(LCD)面板需要光学偏光膜。这些膜必须被完全清洁,从而污染物才不会降低或损害整个LCD面板的图像质量。
膜通常作为连续的卷材(webs)被提供在辊上。存在能够通过将无机污染物或其他污染物清除降至微米水平来清洁卷材的一个或两个表面的系统。然而,这样的系统不能够将污染物清除降至纳米级,例如低聚物,所述低聚物本身不是粒子,而是有机化学聚集物。
在其他领域(例如,商业墨水和涂料)中使用不同类型的技术——常压等离子体清洁器——来消除这样的有机污染物。等离子体清洁器通过空气电离产生等离子体,并且输送材料表面通过所述等离子体,所述等离子体使低聚物或其他有机污染物有效地蒸发或分裂。
符合期望的是提供能够在下降至至少几十纳米级的级别上从物体的表面清除有机污染物和无机污染物两者的集成化系统。
发明内容
简单来说,本发明的实施例包括一种用于清洁物体的系统。所述系统包括被配置成从所述物体的第一表面清除无机污染物的辊清洁器。所述辊清洁器包括至少一个弹性辊、至少一个粘合辊和第一支持物,所述至少一个弹性辊被可旋转地安装到所述辊清洁器并且具有大体上圆柱形的外表面,所述外表面被配置成接触所述物体的所述第一表面以清除所述无机污染物;所述至少一个粘合辊被可旋转地安装到所述辊清洁器并且具有大体上圆柱形的外表面,所述外表面与
所述至少一个弹性辊的外表面的一部分接触。所述物体在所述至少一个弹性辊和所述第一支持物之间通过,以使得所述第一支持物与所述物体的相对的第二表面接触。常压等离子体清洁器被配置成从所述物体的所述第一表面清除有机污染物。所述等离子体清洁器包括密封室和至少一个电极,所述密封室具有分别用于接收和排出所述物体的进口和出口,所述至少一个电极被设置在所述室中并且接收高电压以产生施加到所述物体的所述第一表面的等离子体。所述等离子体清洁器的所述进口的至少一部分由所述至少一个弹性辊和所述第一支持物形成,并且所述物体的第一表面和第二表面与所述弹性辊和所述第一支持物的接触密封所述等离子体清洁器的进口。
本发明的另一个实施例包括一种用于清洁物体的方法。所述方法包括将所述物体接收在辊清洁器中。所述辊清洁器包括至少一个可旋转的弹性辊,与所述至少一个可旋转的弹性辊接触的至少一个可旋转的粘合辊,和第一支持物。所述方法进一步包括使所述物体的第一表面与所述至少一个弹性辊接触,以从所述物体的所述第一表面清除无机污染物,并且使所述物体的第二表面与所述第一支持物接触,使所述物体从所述至少一个弹性辊和所述第一支持物通过进入到其中设置有至少一个电极的常压等离子体清洁器的密封室中,以及向所述至少一个电极施加高电压,以产生从所述物体的所述第一表面清除有机污染物的等离子体。所述物体的第一表面和第二表面与所述至少一个弹性辊和所述第一支持物的接触提供用于所述等离子体清洁器的所述室的密封。
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