[发明专利]研磨剂口腔护理组合物有效

专利信息
申请号: 201480080384.0 申请日: 2014-07-21
公开(公告)号: CN106659651B 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 文达·马洛尼;苏曼·乔普拉;拉胡尔·帕特尔 申请(专利权)人: 高露洁-棕榄公司
主分类号: A61K8/24 分类号: A61K8/24;A61K8/25;A61Q11/00;A61K8/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 郑斌;陈九洲
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 研磨剂 口腔 护理 组合
【说明书】:

发明提供了一种口腔护理组合物,基于所述组合物的总重量,所述组合物包含3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的沉淀二氧化硅,其中所述沉淀二氧化硅具有大于85的表膜清洁率。本发明还提供了一种清洁和/或磨光和/或增白口腔表面的方法,其包括使所述口腔表面与所述口腔护理组合物接触。

背景

已完善确立了研磨剂在口腔护理组合物中的使用。除清洁牙斑和污渍之外,口腔护理组合物(诸如洁牙剂)中的研磨剂还可以磨光牙釉质的表面。磨光牙釉质具有许多美容益处,包括增加牙齿的亮度和光亮、赋予牙齿光滑的质地、以及通过去除促使污渍附着的裂纹和粗糙表面来减少将来的变色。理想地,研磨剂或研磨剂的组合可提供牙釉质的清洁和磨光。

包含焦磷酸钙和二氧化硅的口腔护理组合物是本领域已知的(参见例如WO2008/157197、WO2009/134657和WO2010/068442)。然而,需要提供具有改进的磨光功能从而产生牙齿高光泽度或光亮而不明显增加牙釉质磨损的口腔护理组合物。

简要概述

本发明提供了包含3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的沉淀二氧化硅的口腔护理组合物,其中所述沉淀二氧化硅具有大于85的表膜清洁率。

当在20%负载下测试时具有大于85的表膜清洁率(PCR)的沉淀二氧化硅在本领域被称为高清洁性二氧化硅。通常,高清洁性二氧化硅还具有5至15μm的平均粒度d50和40至120cm3/100g二氧化硅的吸油值。

优选地,组合物包含3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的沉淀二氧化硅。更优选地,组合物包含5至10重量%的焦磷酸钙和12至17重量%的沉淀二氧化硅。

本发明描述了用于清洁和增白牙齿的口腔护理组合物,其由特定量的两种研磨剂的组合组成。具体来说,本发明中涵盖的研磨剂组合包含具有大于85的表膜清洁率的沉淀二氧化硅和焦磷酸钙。

特定量的焦磷酸钙和高清洁性二氧化硅的组合在牙釉质的磨光方面产生惊人的改进。此外,当洁牙剂配方增加由所述配方提供的磨光时,其不会明显增加牙釉质的磨损。本发明的组合物提供改进的磨光,产生合意的牙齿光泽度和/或光亮,同时实现牙齿的清洁和增白。

在一个实施方案中,口腔护理组合物还包含易碎二氧化硅。术语易碎二氧化硅是本领域已知的并且是指具有300至500μm的中值粒度的沉淀二氧化硅。市售易碎二氧化硅包括具有450μm的平均粒度的9175“咬碎(crunch)”二氧化硅(Huber EngineeredMaterials)和G“易碎二氧化硅”(Rhodia)。组合物可包含1至6重量%的具有300至500μm的中值粒度的沉淀二氧化硅。优选地,组合物包含2重量%的具有300至500μm的中值粒度的沉淀二氧化硅。

优选地,口腔护理组合物还包含防污渍剂(stain prevention agent)。防污渍剂可选自三聚磷酸钠、焦磷酸四钾、焦磷酸四钠、六偏磷酸钠、gantrezTM聚合物或其任意组合。

组合物可包含1至5重量%的三聚磷酸钠和1至5重量%的焦磷酸四钾,例如2至3重量%的三聚磷酸钠和2至3重量%的焦磷酸四钾。

优选地,组合物包含氟化物来源。氟化物来源不受特别限定。通常氟化物来源是单氟磷酸盐。

口腔护理组合物还可包含表面活性剂。在一个实施方案中,表面活性剂选自月桂基硫酸钠、椰油酰胺丙基甜菜碱及其组合。

口腔护理组合物还可包含保湿剂。在一个实施方案中,保湿剂选自甘油、山梨糖醇及其组合。

口腔护理组合物还可包含增稠剂。增稠剂可选自聚乙二醇、纤维素衍生物、多糖胶、二氧化硅及其组合。纤维素衍生物可为羧甲基纤维素钠。多糖胶可为黄原胶。

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