[发明专利]荧光体及其制造方法、以及使用了该荧光体的发光装置在审
申请号: | 201480065679.0 | 申请日: | 2014-12-09 |
公开(公告)号: | CN105793388A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
发明(设计)人: | 平松亮介;田村淳;石田邦夫;阿尔贝萨惠子;加藤雅礼 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝高新材料公司 |
主分类号: | C09K11/61 | 分类号: | C09K11/61;C09K11/08;C09K11/59;C09K11/62;C09K11/64;C09K11/68;C09K11/84;H01L33/50 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘凤岭;陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 及其 制造 方法 以及 使用 发光 装置 | ||
1.一种荧光体,其特征在于,所述荧光体的基本组成用下述式(A)表示:
Ka(Si1-x,Mnx)Fb(A)
式中,1.5≤a≤2.5、5.5≤b≤6.5、且0<x≤0.06;
在测定该荧光体的拉曼光谱的情况下,出现在拉曼位移为600±10cm-1的范围且归属于 晶体中的Mn-F键的峰值强度I1相对于出现在拉曼位移为650±10cm-1的范围且归属于晶体 中的Si-F键的峰值强度I0之比I1/I0为0.09~0.22。
2.根据权利要求1所述的荧光体,其中,所述荧光体的内量子效率为80%以上。
3.一种荧光体的制造方法,其特征在于:所述制造方法包括以下工序:使硅源与含有高 锰酸钾和氟化氢的反应溶液接触而进行反应;其中,所述反应溶液中的氟化氢相对于高锰 酸钾的摩尔比为87~127。
4.根据权利要求3所述的荧光体的制造方法,其中,所述反应溶液中的氟化氢浓度为27 ~40质量%。
5.根据权利要求3或4所述的荧光体的制造方法,其中,硅源从单晶硅、多晶硅、非晶质 硅、结晶性二氧化硅以及非晶质二氧化硅中加以选择。
6.根据权利要求3~5中任一项所述的荧光体的制造方法,其中,硅源为硅基板。
7.一种发光装置,其特征在于,所述发光装置具有:发光元件,其发出440nm~470nm波 长区域的光;和荧光体层,其含有权利要求1或2所述的荧光体。
8.根据权利要求7所述的发光装置,其特征在于,所述发光层包含在520nm~570nm的波 长区域具有主发光峰值的荧光体。
9.根据权利要求7或8所述的发光装置,其中,所述荧光体层进一步含有绿色发光荧光 体或者黄色发光荧光体。
10.根据权利要求9所述的发光装置,其中,所述绿色发光荧光体或者黄色发光荧光体 从(Sr,Ca,Ba)2SiO4:Eu、Ca3(Sc,Mg)2Si3O12:Ce、(Y,Gd)3(Al,Ga)5O12:Ce、(Ca,Sr,Ba)Ga2S4: Eu、(Ca,Sr,Ba)Si2O2N2:Eu以及(Ca,Sr)-αSiAlON中加以选择。
11.根据权利要求7~10中任一项所述的发光装置,其中,所述荧光体层进一步含有橙 色发光荧光体或者红色发光荧光体。
12.根据权利要求11所述的发光装置,其中,所述橙色发光荧光体或者红色发光荧光体 从(Sr,Ca,Ba)2SiO4:Eu、Li(Eu,Sm)W2O8、(La,Gd,Y)2O2S:Eu、(Ca,Sr,Ba)S:Eu、(Sr,Ba,Ca) 2Si5N8:Eu以及(Sr,Ca)AlSiN3:Eu中加以选择。
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