[发明专利]荧光体及其制造方法、以及使用了该荧光体的发光装置在审

专利信息
申请号: 201480065679.0 申请日: 2014-12-09
公开(公告)号: CN105793388A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 平松亮介;田村淳;石田邦夫;阿尔贝萨惠子;加藤雅礼 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝高新材料公司
主分类号: C09K11/61 分类号: C09K11/61;C09K11/08;C09K11/59;C09K11/62;C09K11/64;C09K11/68;C09K11/84;H01L33/50
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘凤岭;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 荧光 及其 制造 方法 以及 使用 发光 装置
【权利要求书】:

1.一种荧光体,其特征在于,所述荧光体的基本组成用下述式(A)表示:

Ka(Si1-x,Mnx)Fb(A)

式中,1.5≤a≤2.5、5.5≤b≤6.5、且0<x≤0.06;

在测定该荧光体的拉曼光谱的情况下,出现在拉曼位移为600±10cm-1的范围且归属于 晶体中的Mn-F键的峰值强度I1相对于出现在拉曼位移为650±10cm-1的范围且归属于晶体 中的Si-F键的峰值强度I0之比I1/I0为0.09~0.22。

2.根据权利要求1所述的荧光体,其中,所述荧光体的内量子效率为80%以上。

3.一种荧光体的制造方法,其特征在于:所述制造方法包括以下工序:使硅源与含有高 锰酸钾和氟化氢的反应溶液接触而进行反应;其中,所述反应溶液中的氟化氢相对于高锰 酸钾的摩尔比为87~127。

4.根据权利要求3所述的荧光体的制造方法,其中,所述反应溶液中的氟化氢浓度为27 ~40质量%。

5.根据权利要求3或4所述的荧光体的制造方法,其中,硅源从单晶硅、多晶硅、非晶质 硅、结晶性二氧化硅以及非晶质二氧化硅中加以选择。

6.根据权利要求3~5中任一项所述的荧光体的制造方法,其中,硅源为硅基板。

7.一种发光装置,其特征在于,所述发光装置具有:发光元件,其发出440nm~470nm波 长区域的光;和荧光体层,其含有权利要求1或2所述的荧光体。

8.根据权利要求7所述的发光装置,其特征在于,所述发光层包含在520nm~570nm的波 长区域具有主发光峰值的荧光体。

9.根据权利要求7或8所述的发光装置,其中,所述荧光体层进一步含有绿色发光荧光 体或者黄色发光荧光体。

10.根据权利要求9所述的发光装置,其中,所述绿色发光荧光体或者黄色发光荧光体 从(Sr,Ca,Ba)2SiO4:Eu、Ca3(Sc,Mg)2Si3O12:Ce、(Y,Gd)3(Al,Ga)5O12:Ce、(Ca,Sr,Ba)Ga2S4: Eu、(Ca,Sr,Ba)Si2O2N2:Eu以及(Ca,Sr)-αSiAlON中加以选择。

11.根据权利要求7~10中任一项所述的发光装置,其中,所述荧光体层进一步含有橙 色发光荧光体或者红色发光荧光体。

12.根据权利要求11所述的发光装置,其中,所述橙色发光荧光体或者红色发光荧光体 从(Sr,Ca,Ba)2SiO4:Eu、Li(Eu,Sm)W2O8、(La,Gd,Y)2O2S:Eu、(Ca,Sr,Ba)S:Eu、(Sr,Ba,Ca) 2Si5N8:Eu以及(Sr,Ca)AlSiN3:Eu中加以选择。

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