[发明专利]溅射靶及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种溅射靶及其制造方法，详细而言，涉及一种改善了溅射 特性的含有氧化锌的溅射靶及其制造方法。

背景技术

以AZO(ZnO-Al₂O₃)薄膜为代表的透明导电膜具有较高的导电性和优异 的透光性，并且作为液晶显示器或太阳电池用的薄膜而被使用。此外，在液 晶显示装置(LCD)、电致发光显示装置(EL)以及场致发射显示器(FED)等 各种显示装置中，以IGZO(In₂O₃-Ga₂O₃-ZnO)薄膜为代表的半导体膜作为向 显示元件施加驱动电压而使显示装置驱动的开关元件而被用于薄膜晶体管 (TFT)中。如此，作为构成元素而包含锌的薄膜被使用于多个领域中。

作为制作这些薄膜的方法而存在喷涂法、浸渍法、真空蒸镀法、溅射法 等，但由于在制造成本、生产率、大面积均匀性、膜质、膜的特性(导电率、 透光性等)方面溅射法比较优异，因此溅射法成为目前生产技术的主流。

对于这些溅射中所使用的靶，则正在寻求抑制电弧或结块的发生等改善 溅射特性的技术。从抑制电弧或结块的发生的观点出发，已知靶为高密度或 靶的分割数量较少、即构成靶的分割靶材的数量较少为好。但是，对于作为 靶的构成元素的金属元素对于溅射特性所造成的影响则为未知。

在专利文献1中，记载了为了在IZO(In₂O₃-ZnO)靶中提升靶的强度而 添加金属锌的方法。

在专利文献2中，记载了在氧化锌系溅射靶中为了降低其电阻而添加金 属锌的方法。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-144226号公报

专利文献2：日本特开2008-115453号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明的目的在于，提供一种在溅射过程中电弧或结块的发生较少的含 有氧化锌的溅射靶。

用于解决课题的方法

本发明人发现，通过将含有氧化锌的溅射靶中作为原料而使用的氧化锌 所含有的金属性锌设为固定量以下，从而能够获得电弧或结块较少的优异的 靶，由此完成了本发明。

即，本发明为，使用金属性锌的含量为100ppm以下的氧化锌原料而被制 造出的含有氧化锌的溅射靶，优选为，使用金属性锌的含量为10ppm以下的 氧化锌原料而被制造出的含有氧化锌的溅射靶。

作为所述溅射靶，例如，可列举出由锌与铝的氧化物组成的AZO(铝锌 氧化物)制或由锌、铟、镓的氧化物组成的IGZO(铟镓锌氧化物)制。

此外，本发明为，包括使氧化锌原料的金属性锌的含量减少的工序、以 及使用在所述工序中获得的金属性锌的含量为100ppm以下的氧化锌原料来 制造溅射靶的工序的溅射靶的制造方法。

在所述制造方法中，优选为，使所述氧化锌原料的金属性锌的含量减少 的工序为对氧化锌原料进行热处理的工序。

发明效果

本发明的溅射靶为含有氧化锌的溅射靶，并且在溅射过程中电弧或结块 的发生较少。本发明的溅射靶的制造方法能够有效地制造出含有氧化锌并且 在溅射过程中电弧或结块的发生较少的溅射靶。

具体实施方式

溅射靶

本发明的溅射靶为使用金属性锌的含量为100ppm以下的氧化锌原料而 被制造出的含有氧化锌的溅射靶。

所述氧化锌原料通常为氧化锌粉末。本发明的溅射靶通常使用氧化锌粉 末而被制造出。本发明的溅射靶的具体的制造方法将在后文中进行叙述。

在氧化锌原料中，金属性锌的含量为100ppm以下，优选为10ppm以下， 进一步优选为2ppm以下。此处ppm是指质量ppm(ppmw)。