[发明专利]光伏器件及其形成方法在审
| 申请号: | 201480046723.3 | 申请日: | 2014-06-27 |
| 公开(公告)号: | CN105474410A | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
| 发明(设计)人: | 本亚明·布勒;马库斯·格勒克勒;阿克莱什·古普塔;里克·鲍威尔;邵锐;熊刚;余明伦;赵志波 | 申请(专利权)人: | 第一太阳能有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/0264 | 分类号: | H01L31/0264 |
| 代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 张英;宫传芝 |
| 地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 器件 及其 形成 方法 | ||
相关申请的交叉引证
本申请要求于2013年6月27日提交的美国临时专利申请序列号61/839,930的优先权的权益,在此通过引证以其全部内容将其结合于本文中。
技术领域
本公开总体涉及光伏器件(photovoltaicdevice)领域,并且更具体地,涉及结构和生产光伏器件的方法。
背景技术
在光伏器件的制造过程中,半导体材料层能够施加至基底,其中一层作为窗口层并且第二层作为吸收剂层(吸收层,absorberlayer)。除了半导体层(窗口和吸收剂层)之外,光伏模块、器件、或电池都能够包括在基底(或覆板(superstrate))上产生的多个层(或涂层)。例如,光伏器件能够包括阻挡层、透明导电氧化物层、缓冲层、和在基底上以堆叠体(堆叠,stack)形成的半导体层。每个层可以进而包括一层以上的层或膜。例如,半导体窗口层和半导体吸收剂层一起能够作为半导体层。此外,每个层能够覆盖器件全部或部分和/或层或者层下面的基底的全部或部分。例如,“层”能够包含任何量的任何接触全部或部分表面的材料。碲化镉因为其最佳带结构和制造低成本而已经用于半导体层。
最大化光伏器件的效率依然是光伏器件厂商和用户的长期目标。通常最小化光伏器件的层的厚度是合乎需要的。随着层厚度降低,层之一内和相邻层的结(junction)处的任何缺陷变得更加明显。一种这样的缺陷可以是电流-分流、短路缺陷。这些工艺相关的缺陷被认为存在于基底电极的形态中,或在半导体吸收剂层的沉积或随后的加工期间发展。当一个或多个低电阻电流路径穿过半导体吸收剂层发展时,分流缺陷可能存在于光伏器件,这允许电流在光伏器件的电极之间无阻通过。
在实现高效率的由CdS/CdTe半导体吸收剂层形成的光伏器件中突出关注的是与CdTe层的低电阻接触的形成。根据传统的欧姆接触形成理论,形成与CdTe的欧姆接触的金属应该具有对齐CdTe价带的顶部的费米能级。然而,由于CdTe功函数的高端,大多数金属不能够匹配所述功函数,而因此并不能有效制成与CdTe的欧姆接触。
期望开发具有提供半导体吸收剂层和背面接触层之间的低电阻接触以提高器件效率的背面接触缓冲层的光伏器件。
发明内容
与本公开内容协调且一致的是,令人惊讶地已经发现了具有提供半导体吸收剂层和背面接触层之间的低电阻接触以提高器件效率的背面接触缓冲层的光伏器件。
在本发明的一个实施方式中,光伏器件包括玻璃基底;形成于玻璃基底之上的半导体吸收剂层;形成于半导体吸收剂层之上的金属背面接触层;和设置于半导体吸收剂层和金属背面接触层之间的p-型背面接触缓冲层。
在另一个实施方式中,制造光伏器件的方法包括以下步骤:邻近(adjacentto)基底沉积半导体吸收剂层;邻近半导体吸收剂层沉积p-型背面接触缓冲层;和邻近p-型背面接触缓冲层沉积背面接触层。
在另一实施方式中,制造光伏器件的方法包括以下步骤:邻近基底沉积CdS窗口层;邻近CdS窗口层沉积CdTe半导体吸收剂层;邻近CdTe半导体吸收剂层沉积由MnTe或SnTe组成的p-型背面接触缓冲层;和邻近p-型背面接触缓冲层沉积背面接触层。
附图说明
本公开的上述以及其它优点,由以下详细描述对于本领域技术人员而言,尤其是当依据以下描述的附图进行考虑时,将容易变得显而易见。
图1是本领域中已知的光伏器件的示意图;
图2是图1的光伏器件的能带图;
图3是根据本发明的光伏器件的示意图;
图4是图3的光伏器件的一个实施方式的能带图;和
图5是图3的光伏器件的另一个实施方式的能带图。
具体实施方式
以下描述在本质上仅仅是示例性的而并非意在限制本公开内容、应用或用途。还应当理解的是,在整个附图中,相应的参考标号指示相同或相应的部件和特征。关于公开的方法,呈现的步骤的次序本质上是示例性的,因此,除非另外叙述,否则是非必要的或严格的。
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