[发明专利]片材涂布方法

说明书

背景技术

薄玻璃膜可通过若干技术中的一种制造。最常见的方法是使用其中熔融玻璃流过两个表面、交汇成线并且被拉制成片材的熔合拉制塔，或使用其中将玻璃板加热并且拉制成片材的再拉制工艺。这些工艺中的任一个可产生具有100微米或更小的厚度的薄玻璃。

包括玻璃膜的膜的许多应用可能需要薄膜涂层。这些涂层通常使用基于真空的物理气相沉积(包括化学气相沉积、溅射和蒸发涂布)施加。真空工艺可通过间歇工艺(诸如其中片材均包含在真空室中)或空气-真空-空气工艺(其中供给和收卷辊在大气压下)实现。

虽然常用这些涂布方法，但是它们还是昂贵的。存在卷处理通常在经济上不可行的若干涂布方法。这些包括化学气相沉积(CVD)、低压CVD、以及原子层沉积(ALD)。这些工艺通常用于其中整个板可一次涂布的基于片材的工艺中。

除了上述的基于真空的气相沉积涂布方法，也可使用被称为层-层(LBL)自组装的基于环境、液体的涂布方法在膜和玻璃上提供涂层。LBL涂布是与ALD类似的自限性沉积工艺；然而，它是在环境温度和压力下，通常由水性溶液或分散体进行的。传统上，LBL涂布以间歇模式，使用自动浸渍或喷涂机在相对小区域的基底上进行。通过浸没涂布以连续的卷-到-卷方式进行的LBL涂布在美国专利申请2004/0157047(Mehrabi等人)中已有所描述，并且通过喷雾涂布进行的LBL涂布在美国专利8,234,998(Krogman等人)中已有所描述。然而，使用这些技术以一遍涂布多个层(例如，50至100层)要求涂布线有大的占有面积。

在本领域中需要一种以低成本和高吞吐量提供高性能涂层的涂布片材的方法。

发明内容

根据本公开的一种涂布片材的方法包括以下步骤：提供多个片材，在片材之间具有间隙；以及迫使流体通过间隙。流体具有大体的活塞流剖面并且流体在自限性沉积工艺中将涂层沉积在多个片材的至少一个表面上。

根据本公开的一种制品包括：板架；设置在板架中的多个带涂层的板，在带涂层的板之间具有间隙；以及邻近多个带涂层的板的输入边缘设置的歧管。歧管包括流体分配系统。

附图说明

附图并入本说明书中并构成本说明书的一部分，它们连同具体实施方式阐明本发明的优点和原理。在这些附图中，

图1是间歇式流动反应器的剖切透视图；

图2是间歇式流动反应器的剖切平面图；

图3是ALD反应器的剖切平面图；

图4是ALD反应器的剖切透视图；

图5是ALD反应器的剖视图，示出氮气质量分数等值线；

图6是ALD反应器的剖视图，示出压差等值线；

图7是反应器的剖切透视图；

图8是图7的反应器的剖视图，示出压力等值线；

图9是图7的反应器的剖视图，以扩大标度示出压力等值线；

图10是图7的反应器的一半的平面图，示出速度等值线；

图11是图7的反应器的剖视图，示出0.19秒的物理进展时间处的氮气质量分数等值线，其中扩大标度为0至0.1；

图12是图7的反应器的一半的平面图，示出0.87秒的物理进展时间处的氮气质量分数等值线，其中扩大标度为0至0.2；

图13是图7的反应器的剖视图，示出0.87秒的物理进展时间处的氮气质量分数等值线，其中标度为0至1；

图14是示出1/4波反射器设计的图；

图15A和15B是示出由图14的反应器产生的光谱的曲线图；

图16是示出使用亚光学层的皱褶反射器的模拟物的图；

图17A-17B是示出由图16的反射器产生的光谱、和边带抑制的曲线图。

图18是反射器的反射百分比对波长的设计目标的曲线图；

图19是具有玻璃板叠层的反应器的图片；

图20是图19的反应器的图片，其中反应器被拆卸，大部分玻璃板被移除；

图21是歧管和板叠层的一部分的示意性剖视图；

图22A是包括板叠层的容器的透视图；并且

图22B是图22A的容器的一部分的剖视图。

具体实施方式