[发明专利]用于制备纳米涂层粒子的流化床原子层沉积设备

权利要求书

1.一种流化床原子层沉积设备，其特征在于，包括：

流化床反应器，其内部注入被涂覆粒子；

反应物供给单元，其向所述流化床反应器的内部供给反应气体，该反应气体用于对所述被涂覆粒子进行涂层；及

振动泵，结合于所述流化床反应器使得将所述反应气体通过所述振动泵，其向所述反应气体施加有规则的振动而在所述流化床反应器的内部形成湍流。

2.根据权利要求1所述的流化床原子层沉积设备，其特征在于，

所述振动泵为隔膜泵或薄膜泵。

3.根据权利要求2所述的流化床原子层沉积设备，其特征在于，

所述振动泵包括：隔膜，其通过膨胀及收缩来吸收或排出流体；活塞，其设置于所述隔膜；及驱动器，其驱动所述活塞。

4.根据权利要求1所述的流化床原子层沉积设备，其特征在于，

所述反应物供给单元包括：第一前体供给单元，其供给通过与所述被涂覆粒子的表面进行反应而化学吸附于所述被涂覆粒子的第一前体；及

第二前体供给单元，其供给通过与所述第一前体进行反应而化学吸附于所述第一前体的第二前体。

5.根据权利要求4所述的流化床原子层沉积设备，其特征在于，包括：

惰性气体供给单元，其用于通过向所述流化床反应器供给惰性气体来清除过度供给的第一前体或第二前体。

6.根据权利要求5所述的流化床原子层沉积设备，其特征在于，

所述惰性气体供给单元包括：流量调节器，其用于调节惰性气体的流量。

7.根据权利要求4或5所述的流化床原子层沉积设备，其特征在于，还包括：

真空单元，其用于将所述流化床反应器的内部维持为真空状态。

8.根据权利要求7所述的流化床原子层沉积设备，其特征在于，

所述第一前体供给单元、第二前体供给单元及真空单元并联于所述流化床反应器。

9.根据权利要求1所述的流化床原子层沉积设备，其特征在于，

所述流化床反应器的下部配置有透气支撑体，该透气支撑体选择性的只透过气体。