[发明专利]用于个人护理组合物中的两性三聚物在审
| 申请号: | 201480035058.8 | 申请日: | 2014-07-02 |
| 公开(公告)号: | CN105307726A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
| 发明(设计)人: | J·D·卡特;D·M·帕特尔 | 申请(专利权)人: | 宝洁公司 |
| 主分类号: | A61Q5/02 | 分类号: | A61Q5/02;A61Q5/12;A61K8/81 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 樊云飞;王颖 |
| 地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 个人 护理 组合 中的 两性 三聚 | ||
技术领域
本发明涉及包含两性三聚物、阴离子表面活性剂、含水载体的个人护理组合物,其中所述组合物提供湿调理和干调理有益效果,将调理剂均匀沉积在发型上,并且不导致多次洗涤循环性能折衷。
背景技术
包含去污表面活性剂和毛发调理剂的调理洗发剂或“2合1”毛发产品是已知的。这些个人护理组合物通常包含阴离子去污表面活性剂与调理剂如硅氧烷、烃油、脂肪酸酯等的组合。作为可由单一产品方便地获得毛发调理和清洁性能的方法,这些产品在消费者中已变得越来越普及。
然而,许多调理性个人护理组合物在施用过程期间不能向毛发或皮肤提供足够的调理剂沉积,并且如果沉积是可能的,唯一的可能是制剂具有较低含量的阴离子表面活性剂。如果没有充分的沉积,则大部分调理剂在施用过程期间被洗去,从而几乎不或不提供调理有益效果。如果毛发或皮肤上没有足够的调理剂沉积,则可能需要较高含量的调理剂。然而,如此高含量的调理剂会增加原料的成本、降低起泡性能,并且呈现产品稳定性问题。此外,为形成凝聚层而对总阴离子表面活性剂的限制可限制组合物的泡沫电位,或导致为获得优良泡沫而对较高含量的更昂贵两性表面活性剂的需要。
一种改善毛发调理剂到毛发上的沉积的已知方法涉及使用特定的阳离子沉积聚合物。这些聚合物可以是合成的如基于阳离子丙烯酰胺结构的那些,但是最通常是已用阳离子取代基改性的天然纤维质或瓜尔胶聚合物。
由常规阳离子聚合物如得自纤维素、瓜尔胶和合成丙烯酰胺提供的内在调理水平较低,尤其是在湿态下。另外,提供应用有益效果所需的高阳离子聚合物含量可导致消费者可察觉的性能折衷。此外,当用作沉积助剂时,这些性能折衷在多次洗涤循环后,由于毛发调理剂在更疏水性基底上的过度沉积,可能加剧(例如发根与发梢相比,天然褐色毛发与漂泊损伤毛发相比)。
然而,需要聚合物体系,所述体系自身提供有效湿调理和干调理,用作发型上毛发护理有益剂的有效沉积助剂,并且不导致多次循环折衷如积聚、垂挂和缺乏洁净感。
令人惊奇的是,本发明的三聚物在单独配制时提供强效湿调理和干调理有益效果,将调理剂有效并且均匀地沉积在发型上,并且在多次洗涤循环后不导致积聚或感觉不佳。当与其它阳离子聚合物组合时,已发现本发明的三聚物进一步改善了应用体验,而无任何多次循环折衷。
发明内容
根据本发明的一个实施例,期望个人护理组合物,所述组合物包含:约5%至约50%的表面活性剂;约0.01%至约10%的调理剂;个人护理组合物的约0.05重量%至约5重量%的以下的两性三聚物:
i.)由式(I)包括的阳离子单体,
其中:
R1和R2独立地为氢或甲基,R3、R4和R5独立地为直链或支链C1-C4烷基基团,X为NH、NR6或氧,其中R6为C1–C4烷基,L为CnH2n,n为1至5的整数,并且A-为得自有机酸或无机酸的阴离子如甲硫酸根阴离子或卤离子,所述卤离子如氯离子或溴离子,
ii.)至少一种阴离子单体,所述单体选自包含烯键式不饱和羧酸和磺酸的单体;和
iii.)由式(II)定义的二烯丙基胺单体,
其中:
R7和R8独立地为氢或C1-C4烷基,并且R9为氢、支链或直链C1-C30烷基、*—[AO]m—R10、C1-C30烷氧基、羟基取代的烷基、烷基苯基、羧基烷基、烷氧基烷基和羧胺烷基;AO为C1-C4亚烷基氧基或其两种或更多种类型的混合物,两种或更多种类型可能以嵌段形式或以无规形式彼此连接,m为2至200的整数,R10为氢或甲基;并且其中阳离子单体i)与阴离子单体ii)的比率为约5至约1。
具体实施方式
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