[发明专利]用于制备氨基芳基硼酸和氨基杂芳基硼酸以及酯的方法

说明书

技术领域

本发明涉及从式(V)的二烷基缩酮衍生物开始

以高产率制备氨基芳基硼酸和氨基杂芳基硼酸及其式(I)的酯的方法

背景技术

硼酸衍生物广泛使用于有机合成中用于碳-碳键的形成。在Suzuki偶联中，芳基卤化物和硼酸芳基或乙烯基酯或硼酸使用Pd(PPh₃)₄进行偶联(N.Miyaura,T.Yanagi和A.Suzuki Synth.Commun.1981,11,513)。三氟甲磺酸芳基酯也是有效的偶联搭档(T.Ohe,N.Miyaura和A.Suzuki J.Org.Chem.1993,58,2201)。

硼酸衍生物已经在天然产物合成(P.Rocca等Tetrahedron Lett.1993,34,7919)、材料合成(J.P.Sauvage等Tetrahedron Lett.1993,34,2933)、多(亚芳基)聚合(T.I.Wallow等.J.Am.Chem.Soc.1991,113,7411)以及低聚芳烃液晶制备(J.W.Goodby等.J.Mater.Chem.1993,3,821)的过程中使用。这种化学作用的一个重要特征为硼酸一般而言是相对无毒的且是空气和湿气稳定的化合物。

有机芳基硼酸、杂芳基硼酸及其衍生物可以通过以下不同的合成路径来获得：双(频哪醇合)二硼(B₂pin₂)与芳基卤化物和乙烯基卤化物的交叉偶联(Miyaurap硼化反应)或者通过使用硼酸三烷基酯的芳基锂或芳基镁化合物的转化然后通过酸水解(T.Leermann,F.R.Leroux,F.Colobert Org.Lett.2011,13,4479-4481)。

然而，上述用于制备有机芳基硼酸和杂芳基硼酸的合成方法存在一些限制，主要在于存在一些与所使用的反应条件不相容的官能团。例如，氨基基团的存在可干扰有机金属化合物的形成。因此应用多种合成方案、使用不同的氨基保护基团以制备氨基芳基硼酸和氨基杂芳基硼酸以及酯。

美国专利申请2008/269523A1描述了使用二苯甲酮将溴氨基芳基和溴氨基杂芳基基质保护为亚氨基衍生物的可能性。

可替代地，CN102367260A描述了使用溴氨基杂芳基化合物的叔-丁基氧基羰基衍生物(t-BOC衍生物)的可能性。

此外，氨基基团还可以被保护为N,N-二苄基衍生物或N,N-三甲基硅烷基衍生物，所述N,N-二苄基衍生物为通过催化加氢可以去除的官能团(参见US7196219B2)，所述N,N-三甲基硅烷基衍生物在湿气下不稳定(Tetrahedron Lett.2003,44(42),7719-7722)。

不幸的是，按比例放大的上述这些合成方法具有一些重大的缺点，因为以千克的规模进行操作，从来不可能获得US2008/269523A1所描述的总产率(即38-66％)，而在为了获得高于90％的转化率进行的非常长的反应时间(数天)下只有相当低的产率(约2-10％)。

与在US2008/269523A1中描述的缺乏再现性相关联的主要问题是由于亚氨基衍生物的形成；事实上，在上述专利申请的实施例1-10中描述的二苯甲酮和氨基芳基或氨基杂芳基衍生物之间的反应产生非常低的产率。

已经考虑其它参数用于解决该问题，如水的存在，所使用的催化剂和溶剂。特别的，水的存在为已知的用于制备亚氨基衍生物的关键，因为水的存在可以对反应的平衡产生负面影响。

在较大规模下较长的反应时间也可以说明较低/变化的产率，因为苛刻反应条件的长时间应用可以明显地导致降解。

虽然对于该意料不到的行为的原因并不是完全清楚，为了在较大规模下(kg或mt)获得合理的反应速率而不牺牲所描述的方法的益处，而需要改善在US2008/0269523A1中所描述的方法。

最后，在CN102367260A中描述的保护试剂碳酸二叔丁基酯已知为强毒性(如果吸入致命)、易燃、在湿气下不稳定，这使得其特别不适合于工业使用。

因此，需要提供在大规模下以高产率制备氨基芳基硼酸和氨基杂芳基硼酸的改进方法，所述方法使用无毒性且易于处理的试剂。

发明内容

现已出乎意料地发现用于制备溴氨基芳基化合物或溴氨基杂芳基化合物的亚氨基衍生物的新合成方法，所述方法以高产率提供相应的硼酸和酯。