[发明专利]物体保持装置及制造物体保持装置的方法有效

专利信息
申请号: 201480018352.8 申请日: 2014-02-26
公开(公告)号: CN105103052B 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: R·拉法尔;S·阿成达;M·菲利皮;Y·卡拉第;A·尼里森;R·范德威克;H·C·M·范多瑞梅伦;W·威尔特斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 张启程
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 物体 保持 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种制造用在光刻设备中的物体保持装置的方法,所述物体保持装置包括一个或多个电功能部件,所述方法包括:

使用包括承载板和分层结构的复合结构,所述承载板与物体保持装置的主体不同,所述分层结构包括一个或多个层并且形成在承载板上;

将复合结构连接到主体的表面上,使得分层结构位于承载板和主体的所述表面之间;以及

从复合结构上移除承载板,留下与主体连接的分层结构。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述承载板包括含有硅的表面,并且所述分层结构包括通过热氧化承载板的表面形成的第一层。

3.根据权利要求1所述的方法,其中所述分层结构包括所述电功能部件中的一个或多个。

4.根据权利要求1所述的方法,其中所述电功能部件中的一个或多个形成在分层结构的外侧。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中电功能部件包括以下部件中的一个或多个:加热器、传感器、电极,所述电极用于抵靠物体保持装置来静电保持物体或抵靠用于支撑物体保持装置的物体台来静电保持物体保持装置。

6.根据权利要求5所述的方法,其中所述电极形成在物体保持装置的主体中或者形成到物体保持装置的主体的与分层结构和物体保持装置连接的一侧相反的一侧上。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,还包括形成用于将物体支撑在分层结构上的一个或多个凸起,所述凸起在承载板从复合结构上移除之后形成。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中多个凸起从主体的表面上突出,用于支撑物体,并且所述方法还包括:

在复合结构与所述主体的表面连接之前,形成穿透分层结构至承载板中的多个缺口,所述多个缺口与所述多个凸起在空间上互补,使得当复合结构放置在主体上时所述多个凸起与所述多个缺口接合。

9.根据权利要求8所述的方法,其中凸起的端表面在缺口中与承载板接触。

10.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中复合结构与所述主体的表面通过形成在复合结构和所述主体的表面之间的粘合层连接。

11.根据权利要求10所述的方法,其中:

所述粘合层在复合结构与所述主体的表面之间的选定的区域中被省略,以便允许分层结构相对于选定的区域中的主体屈曲。

12.根据权利要求11所述的方法,其中:

所述主体设置有与选定的区域的位置对应的通孔,以允许分层结构通过选定的区域中的通孔馈通,由此允许从所述主体的与物体相反的一侧对分层结构进行电连接。

13.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中所述物体是衬底并且所述物体保持装置是衬底保持装置,或者其中所述物体是图案形成装置并且所述物体保持装置是图案形成装置保持装置。

14.一种用于支撑物体并且用在光刻设备中的物体保持装置,包括:

主体;

一个或多个电功能部件;

形成在主体的表面上的粘合层;以及

分层结构,所述分层结构包括一个或多个层并且通过粘合层与主体连接,其中所述分层结构包括通过衬底的硅表面的热氧化形成的SiO2层;以及

多个凸起,所述多个凸起从主体的表面上突出且超过所述分层结构,用于支撑物体。

15.根据权利要求14所述的物体保持装置,其中所述一个或多个电功能部件包括电极,所述电极用在抵靠物体保持装置静电夹持物体或抵靠用于支撑物体保持装置的物体台静电夹持物体保持装置中。

16.根据权利要求15所述的物体保持装置,其中所述SiO2层被定位为作为静电夹持元件之间的电隔离层。

17.根据权利要求14-16中任一项所述的物体保持装置,还包括用于支撑物体的多个凸起,所述多个凸起设置在SiO2层上。

18.根据权利要求14-16中任一项所述的物体保持装置,其中一个或多个电功能部件包括以下部件中的一个或多个:加热器、传感器、用于抵靠物体保持装置静电保持物体或抵靠用于支撑物体保持装置的物体台静电保持物体保持装置的电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480018352.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top