[发明专利]光学活性反式1,2-二氨基环己烷的制造方法在审
申请号: | 201480016564.2 | 申请日: | 2014-03-13 |
公开(公告)号: | CN105143173A | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
发明(设计)人: | 森井清二;森本正雄 | 申请(专利权)人: | 东丽精细化工株式会社 |
主分类号: | C07C209/84 | 分类号: | C07C209/84;C07C211/36 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 曽祯;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 活性 反式 氨基 环己烷 制造 方法 | ||
1.一种光学活性反式1,2-二氨基环己烷的制造方法,从光学活性反式1,2-二氨基环己烷的溶液进行晶体析出,从而得到光学活性反式1,2-二氨基环己烷的晶体。
2.根据权利要求1所述的光学活性反式1,2-二氨基环己烷的制造方法,光学活性反式1,2-二氨基环己烷的溶液的溶剂是添加具有与水共沸的组成的溶剂并进行共沸脱水后的溶剂。
3.根据权利要求2所述的光学活性反式1,2-二氨基环己烷的制造方法,具有与水共沸的组成的溶剂和晶体析出中使用的溶剂是相同的溶剂。
4.根据权利要求2或3所述的光学活性反式1,2-二氨基环己烷的制造方法,具有与水共沸的组成的溶剂是非水溶性有机溶剂。
5.根据权利要求2或3所述的光学活性反式1,2-二氨基环己烷的制造方法,具有与水共沸的组成的溶剂是甲苯或环戊基甲基醚。
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