[发明专利]用于热处理腔室的高温测量过滤器

权利要求书

1.一种用于热处理腔室中的设备，所述设备包括：

透明介质，所述透明介质具有多个表面，所述多个表面包括顶表面和底表面，所述透明介质具有几何形状，其中所述透明介质中心区域的厚度小于所述透明介质周边区域的厚度，并且所述顶表面和所述底表面从所述周边区域向所述中心区域向内变锥形；

反射性涂层，所述反射性涂层设置在所述顶表面和所述底表面上；

折射率匹配材料，所述折射率匹配材料设置在所述反射性涂层上、邻近于所述顶表面和所述底表面的至少一个；和

吸收性涂层，所述吸收性涂层设置在所述周边区域上。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述透明介质包括石英。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述折射率匹配材料经选择与所述透明介质的折射率有关。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述透明介质绕垂直轴对称。

5.如权利要求4所述的设备，其中所述透明介质绕水平轴对称。

6.如权利要求1所述的设备，其中所述反射性涂层经选择以反射在700nm至1000nm之间的预定范围的波长。

7.如权利要求1所述的设备，其中所述反射性涂层包括介电材料。

8.如权利要求7所述的设备，其中所述介电材料包括多个层。

9.一种用于处理基板的系统，所述系统包括：

辐射源；

高温计；和

透明介质，所述透明介质设置在所述辐射源与所述高温计之间，所述透明介质进一步包括：

多个表面，所述多个表面包括顶表面和底表面，所述透明介质具有几何形状，其中所述透明介质中心区域的厚度小于所述透明介质周边区域的厚度，并且所述顶表面和所述底表面从所述周边区域向所述中心区域向内变锥形；

反射性涂层，所述反射性涂层设置在所述顶表面和所述底表面上；

折射率匹配材料，所述折射率匹配材料设置在所述反射性涂层上、邻近于所述顶表面和所述底表面的至少一个；和

吸收性涂层，所述吸收性涂层设置在所述周边区域上。

10.如权利要求9所述的系统，其中所述高温计检测700nm至1000nm之间的波长。

11.如权利要求9所述的系统，其中所述透明介质包括石英。

12.如权利要求9所述的系统，其中所述折射率匹配材料经选择与所述透明介质的折射率有关。

13.如权利要求9所述的系统，其中所述透明介质绕垂直轴对称。

14.如权利要求13所述的系统，其中所述透明介质绕水平轴对称。

15.如权利要求9所述的系统，其中所述反射性涂层经选择以反射在700nm至1000nm之间的预定范围的波长。

16.如权利要求9所述的系统，其中所述反射性涂层包括介电材料。

17.一种用于热处理腔室的设备，所述设备包括：

透明介质，所述透明介质具有多个表面，所述多个表面包括顶表面和底表面，所述透明介质包括：

几何形状，其中所述透明介质的厚度在所述多个表面之间恒定不变；和

变化的光学厚度，所述变化的光学厚度在所述透明介质的各个区域处具有多个折射率；

反射性涂层，所述反射性涂层设置在所述顶表面和所述底表面上；

折射率匹配材料，所述折射率匹配材料设置在所述反射性涂层上、邻近于所述顶表面和所述底表面的至少一个；和

吸收性涂层，所述吸收性涂层设置在所述透明介质的周边区域上。

18.一种用于热处理腔室的设备，所述设备包括：

透明介质，所述透明介质具有多个表面，所述多个表面包括顶表面和底表面，所述透明介质具有几何形状，其中所述透明介质的厚度在所述透明介质的整个直径上恒定不变；

一个或更多个反射性表面，所述一个或更多个反射性表面嵌入所述透明介质内；

折射率匹配材料，所述折射率匹配材料设置在所述一个或更多个反射性表面上、邻近于所述顶表面和所述底表面的至少一个；和

吸收性涂层，所述吸收性涂层设置在所述透明介质的周边区域上。

19.一种用于热处理腔室的设备，所述设备包括：

透明介质，所述透明介质具有领结结构，所述领结结构包括：

中心区域，所述中心区域的厚度小于周边区域的厚度；

顶表面，所述顶表面从所述中心区域线性向上延伸至所述周边区域；和

底表面，所述底表面从所述中心区域线性向下延伸至所述周边区域，使得所述顶表面与所述底表面沿所述透明介质的水平面对称；

反射性涂层，所述反射性涂层设置在所述顶表面和所述底表面上；

吸收性涂层，所述吸收性涂层设置在所述周边区域上；和

折射率匹配材料，所述折射率匹配材料设置在所述反射性涂层上、邻近于所述顶表面和所述底表面的至少一个。