[实用新型]立式电镀槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种立式电镀槽。

背景技术

电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。

电镀槽是电镀设备中最基础的配套。现有立式电镀槽如图1所示，均包括圆形直桶型的主电镀槽2，类似的立式电镀槽普遍存在如下缺点：当电镀工件体积较大时，需要从主电镀槽2抽出一部分电镀液，防止电镀作业时电镀液溢出，相反当电镀工件体积较小时，又需将存放的已经冷却的电镀液补充回主电镀槽2，然后还需要对电镀液进行搅拌升温，防止电镀液存在上下温差以避免电镀质量的下降，另外长期电镀作业后电镀液内杂质含量增多，将导致电镀质量的下降；补充电镀液时直接在主电镀槽2添加，补充电镀液中的杂质在主电镀槽2底部沉积，影响电镀质量的同时还不易排出该杂质。

有鉴于此，需要提供一种能够灵活地根据不同待电镀工件的体积大小，存储电镀液或者向主电镀槽中添加电镀液的立式电镀槽。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种立式电镀槽，该立式电镀槽能够灵活地根据不同待电镀工件的体积大小，存储电镀液或者向主电镀槽中添加电镀液。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种立式电镀槽，所述立式电镀槽中形成有主电镀槽和缓冲槽，所述主电镀槽的侧壁上形成有溢流口，所述主电镀槽中的电镀液能够通过所述溢流口溢流至所述缓冲槽，所述主电镀槽与缓冲槽之间还连接有补流通道，所述缓冲槽中的所述电镀液能够通过所述补流通道补充至所述主电镀槽中。

优选地，具有所述溢流口的所述侧壁为所述主电镀槽与缓冲槽之间的间隔壁，所述溢流口形成为所述侧壁的顶部缺口。

优选地，所述立式电镀槽包括作为所述补流通道的补流管，该补流管的一端连接到所述缓冲槽的底部，另一端连接至所述主电镀槽。

优选地，所述补流管中设置有输送泵。

优选地，所述补流管中设置有电镀液过滤机。

优选地，所述缓冲槽中设置有电镀液加热器。

优选地，所述电镀液加热器包括电镀液净化单元。

优选地，所述立式电镀槽还包括用于遮盖所述缓冲槽的缓冲槽顶盖，所述缓冲槽顶盖中设置有加料口。

优选地，所述立式电镀槽还包括溢流管，该溢流管的一端连接所述溢流口，另一端连接所述缓冲槽。

通过上述技术方案，本实用新型的立式电镀槽能够灵活地根据不同待电镀工件的体积大小，存储电镀液或者向主电镀槽中添加电镀液，避免频繁抽出或者补充电镀液，与此同时，存储在缓冲槽中的电镀液均能通过电镀液加热器加热保温，从而避免添加进入主电镀槽中的电镀液与原主电镀槽中的电镀液存在较大温差，进而防止电镀液存在上下温差以避免电镀质量的下降。此外，向立式电镀槽中补充电镀液的操作过程均在缓冲槽中完成，从而使得补充电镀液中的杂质在缓冲槽的底部沉积，便于收集排出该杂质的同时，防止了该杂质影响电镀质量。

本实用新型的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是现有技术的立式电镀槽的结构示意图；

图2是根据本实用新型的具体实施方式的立式电镀槽的结构示意图；

图3是图2中的立式电镀槽的俯视图。

附图标记说明

1、主电镀槽2、缓冲槽

3、溢流口4、电镀液加热器

6、输送泵

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

本实用新型提供一种立式电镀槽，通过对比图1与图2，可以观察出本实用新型在结构上的改进。具体的，如图2和图3所示，所述立式电镀槽中形成有主电镀槽1和缓冲槽2，所述主电镀槽1的侧壁上形成有溢流口3，所述主电镀槽1中的电镀液能够通过所述溢流口3溢流至所述缓冲槽2，所述主电镀槽1与缓冲槽2之间还连接有补流通道，所述缓冲槽2中的所述电镀液能够通过所述补流通道补充至所述主电镀槽1中。