[实用新型]一种封装结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体封装技术，特别涉及一种封装结构。

背景技术

影像传感芯片是一种能够感受外部光线并将其转换成电信号的芯片。在影像传感芯片制作完成后，再通过对影像传感芯片进行一系列封装工艺，从而形成封装好的影像传感器，以用于诸如数码相机、数码摄像机等等的各种电子设备。

现有技术中，影像传感芯片是由图像传感(CIS，Contact Image Sensor)单元和信号处理(DSP，Digital Signal Processor)单元两部分组成的，在同一块芯片上同时设置图像传感单元和信号处理单元，其中，图像传感单元用于接收光信号转化为电信号，信号处理单元用于对光信号转化的电信号进行处理。

然而，现有技术中，在一块芯片上设置图像传感单元以及信号处理单元时，芯片设计难度且形成的封装结构性能有待提高。

实用新型内容

本实用新型解决的问题是提供一种封装结构，图像传感芯片以及信号处理芯片为分开设置的，提高封装性能。

为解决上述问题，本实用新型提供一种封装结构，包括：图像传感芯片，所述图像传感芯片具有第一面以及与所述第一面相对的第二面，所述图像传感芯片第一面具有感光元件和环绕所述感光元件的第一焊盘，所述图像传感芯片内具有金属柱，且所述金属柱的一端与第一焊盘电连接，与所述一端相对的另一端与图像传感芯片第二面齐平；信号处理芯片，所述信号处理芯片具有第三面和与所述第三面相对的第四面，所述信号处理芯片第三面具有第二焊盘，且所述信号处理芯片第三面与图像传感芯片第二面固定接合，所述第二焊盘与金属柱电连接；贯穿所述信号处理芯片第四面的通孔，且所述通孔暴露出第二焊盘表面。

可选的，所述图像传感芯片和信号处理芯片之间形成有粘附层。

可选的，还包括：位于所述第二焊盘以及粘附层内的开口，开口底部暴露出金属柱表面，且所述开口与通孔相互贯穿。

可选的，还包括：填充满所述开口的导电层，且所述导电层与金属柱以及第二焊盘相接触。

可选的，还包括：位于通孔侧壁以及信号处理芯片第四面的绝缘层；位于绝缘层表面的金属再分布层，且所述金属再分布层还位于导电层表面；位于所述信号处理芯片第四面的金属再分布层表面的焊接凸起。

可选的，还包括：填充满所述通孔的焊接凸起，所述焊接凸起与导电层相接触，且所述焊接凸起顶部高于信号处理芯片第四面。

可选的，在所述焊接凸起与通孔侧壁之间形成有绝缘层，所述绝缘层还覆盖于信号处理芯片第四面。

可选的，所述信号处理芯片第三面与图像传感芯片第二面直接接触，所述第二焊盘表面与金属柱表面相接触。

可选的，还包括：位于所述通孔侧壁以及信号处理芯片第四面的绝缘层；位于所述通孔底部以及绝缘层表面的金属再分布层；位于所述信号处理芯片第四面的金属再分布层表面的焊接凸起。

可选的，填充满所述通孔的焊接凸起，所述焊接凸起与第二焊盘相接触，且所述焊接凸起顶部高于信号处理芯片第四面。

可选的，还包括：位于图像传感芯片第一面的基板。

可选的，所述基板和图像传感芯片第一面之间还形成有粘胶层。

与现有技术相比，本实用新型的技术方案具有以下优点：

本实用新型实施例提供一种结构性能优越的封装结构，图像传感芯片第一面具有感光元件和环绕所述感光元件的第一焊盘，所述图像传感芯片内具有金属柱，且所述金属柱一端与第一焊盘电连接，与所述一端相对的另一端与图像传感芯片第二面齐平；信号处理芯片第三面与图像传感芯片第二面固定接合，信号处理芯片第三面具有第二焊盘，且所述第二焊盘与金属柱电连接，从而使封装结构中的图像传感芯片与信号处理芯片电连接；贯穿所述信号处理芯片第四面的通孔，且所述通孔暴露出第二焊盘表面，所述暴露出的第二焊盘表面用于与外部电路电连接，从而使封装结构与外部电路电连接。本实用新型封装结构中，图像传感芯片以及信号处理芯片是相对设置的，图像传感芯片以及信号处理芯片之间受到对方的制约小，因此图像传感芯片以及信号处理芯片均能获得最佳的性能，提高了封装性能。

同时，由于图像传感芯片与信号处理芯片并未设置在同一芯片上，相对现有技术而言，本实用新型实施例的图像传感芯片的面积更小，因此，图像传感芯片的设计成本降低，从而使得封装结构的成本低。并且，由于图像传感芯片与信号处理芯片分开设置，图像传感芯片与信号处理芯片可以任意组合，使得封装结构具有更高的灵活性。