[实用新型]一种基板位置校准装置有效

专利信息
申请号: 201420205908.1 申请日: 2014-04-24
公开(公告)号: CN203839359U 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 艾青南;张贺攀;王超;孟健 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李迪
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 位置 校准 装置
【权利要求书】:

1.一种基板位置校准装置,包括可升降式载台及其伺服电机、相对设于载台上方的阴影框及位于载台下方的支撑系统,所述支撑系统包括一水平支架和垂直设于支架上且穿过载台的至少一个支撑杆,其特征在于:所述阴影框的下方固定有至少一对校准滚轮;所述载台为凸型的双层结构,上层载台的尺寸与基板一致,上下两层的宽度差均一且大于校准滚轮的直径。

2.根据权利要求1所述的位置校准装置,其特征在于:所述校准滚轮的个数为2~16个,成对均匀设置在阴影框四周。

3.根据权利要求1所述的位置校准装置,其特征在于:所述校准滚轮的直径与上层载台的厚度比为0.8-1.2:1。

4.根据权利要求1所述的位置校准装置,其特征在于:所述校准滚轮通过弹性结构固定至阴影框。

5.根据权利要求1-3任一项所述的位置校准装置,其特征在于:所述校准滚轮为陶瓷校准滚轮。

6.根据权利要求1所述的位置校准装置,其特征在于:所述的支撑杆的数量为8-16个。

7.根据权利要求1或6所述的位置校准装置,其特征在于:所述载台上设有供支撑杆穿过的T型凹槽,载台上升至与支撑杆齐平后可带动其继续上升至校准滚轮下方。

8.根据权利要求1所述的位置校准装置,其特征在于:所述阴影框遮盖基板边缘的宽度为2-4mm。

9.根据权利要求1或8所述的位置校准装置,其特征在于:所述阴影框为与所述载台一同升降的活动结构。

10.根据权利要求1所述的位置校准装置,其特征在于:所述基板为玻璃基板或硅片。

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