[发明专利]一种金合金靶材及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410836351.6 申请日: 2014-12-26
公开(公告)号: CN104561639A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: 张国清;郭菲菲;黄小凯;黄晓猛 申请(专利权)人: 北京有色金属与稀土应用研究所
主分类号: C22C5/02 分类号: C22C5/02;C23C14/14
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘茵
地址: 100012*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 合金 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种金合金靶材,其特征在于,该靶材由以下含量的成分组成:Ge 9.5~13.5wt%,Ni 4.2~5.8wt%和Au余量。

2.一种金合金靶材的制备方法,其特征在于,采用“离心铸造-热压-机械加工”方法,包括以下步骤:

(1)备料:选择原料,其中纯度99.99%的金、纯度99.99%的镍、单晶锗;按照各组分的质量百分比称取原料,其中,Ge 9.5~13.5wt%,Ni 4.2~5.8wt%和Au余量;

(2)离心铸造:将称好的金、镍、锗原料放入离心铸造机的石英坩埚中,抽真空,采用超音频感应熔炼,金属全熔后甩入石墨模,铸成矩形板坯;

(3)热压:将得到的板坯加热至245℃~255℃,采用万吨压机持续压1-3min,压力维持在180MPa~200MPa;

(4)机械加工:将热压后的板坯进行铣床加工,先采用硬质合金铣刀将板材长、宽、厚尺寸分别铣至比成品尺寸大0.5mm,再用金刚石铣刀进行精加工,最后加工至成品尺寸。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中离心铸造真空度不低于1.0×10-1Pa。

4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中离心浇铸温度为645℃~655℃,甩臂速度为30r/min~35r/min。

5.一种金合金靶材,其特征在于,该靶材是采用如权利要求2-4中任一项所述的方法制备的。

6.根据权利要求1或5所述的金合金靶材作为GaAs基半导体器件磁控溅射镀膜材料的应用。

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