[发明专利]一种掩膜版清洁装置及其清洁方法

权利要求书

1.一种掩膜版清洁方法，其特征在于，包括：

在清洁时间内，将干冰颗粒群以340m/s～1000m/s的速度朝着所述掩膜版的表面进行喷射，所述干冰颗粒群中的干冰颗粒对所述掩膜版的表面进行撞击。

2.根据权利要求1所述的掩膜版清洁方法，其特征在于，在所述清洁时间内，当所述干冰颗粒群中的干冰颗粒的密度为1.4g/cm³～1.6g/cm³时，所述干冰颗粒群的馈送率为6.18×10^-9kg/min～0.6kg/min。

3.根据权利要求1所述的掩膜版清洁方法，其特征在于，在所述清洁时间内，当所述干冰颗粒群中的干冰颗粒的密度为1.4g/cm³～1.6g/cm³时，将压强为1.97×10^-3PA～9.7×10⁵PA的气体作用于所述干冰颗粒群，所述干冰颗粒群以340m/s～1000m/s的速度朝着所述掩膜版的表面进行喷射，所述干冰颗粒群中的干冰颗粒对所述掩膜版的表面进行撞击。

4.根据权利要求1所述的掩膜版清洁方法，其特征在于，还包括对脱离所述掩膜版表面的污染物以及由所述干冰颗粒转换的二氧化碳进行收集。

5.根据权利要求1-4任一项所述的掩膜版清洁方法，其特征在于，还包括：

向被所述干冰颗粒撞击后的所述掩膜版的表面吹风；和/或，

在所述干冰颗粒撞击所述掩膜版的同时，向所述掩膜版输送频率为1K～100K赫兹的超声波。

6.根据权利要求1所述的掩膜版清洁方法，其特征在于，所述干冰颗粒的粒径为1μm～100μm。

7.一种掩膜版清洁装置，其特征在于，包括：

腔室，所述腔室用于容纳掩膜版；

干冰喷射设备，所述干冰喷射设备用于朝着所述掩膜版以340m/s～1000m/s的速度喷射出干冰颗粒群，所述干冰颗粒群中的干冰颗粒对所述掩膜版的表面进行撞击。

8.根据权利要求7所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，所述干冰喷射设备包括：

干冰输送通道，所述干冰输送通道用于容纳所述干冰颗粒群，其中，在所述干冰颗粒的粒径为1μm～100μm的情况下，所述干冰输送通道的管径为1mm～3mm；

喷头，所述喷头的头部位于所述腔室中，所述喷头的连接部与所述干冰输送通道相连接；

压力部件，所述压力部件用于向所述干冰输送通道提供压强为1.97×10^-3PA～9.7×10⁵PA的气体作用于所述干冰颗粒的密度为1.4g/cm³～1.6g/cm³的所述干冰颗粒群。

9.根据权利要求7所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，所述干冰喷射设备向所述掩膜版供给所述干冰颗粒群的馈送率为6.18×10^-9kg/min～0.6kg/min，其中，所述干冰颗粒群中干冰颗粒的密度为1.4g/cm³～1.6g/cm³。

10.根据权利要求7所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，还包括：

吸集部件，与所述腔室的出风口相连接，用于对脱离所述掩膜版表面的污染物以及由所述干冰颗粒转换的二氧化碳进行收集。

11.根据权利要求7-10任一项所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，还包括：吹送部件以及超声波发生源；

其中，所述吹送部件，与所述腔室的进风口相连接，用于向被所述干冰颗粒撞击后的所述掩膜版的表面吹风；和/或，

所述超声波发生源，用于在所述干冰颗粒撞击所述掩膜版的同时，向所述掩膜版输送频率为1K～100K赫兹的超声波。

12.根据权利要求7所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，还包括：干冰制备设备；

所述干冰制备设备包括用于存储液态二氧化碳的存储腔，以及用于向所述存储腔提供压缩空气，以使得所述液态二氧化碳转换为干冰颗粒的空气进气室；

其中，所述存储腔的出料口连接所述干冰喷射设备，所述存储腔的进气口连接所述空压进气室。