[发明专利]压印装置与制造物品的方法有效
申请号: | 201410749326.4 | 申请日: | 2014-12-09 |
公开(公告)号: | CN104698743B | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 新井刚;三田裕 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 压印装置 第一空间 排出口 基板 第二空间 生成单元 制造物品 模具 离子 软X射线照射 供给单元 压印材料 电荷 排出压 去除 图案 侧面 | ||
1.一种压印装置,其在保持基板上的压印材料与模具接触的状态下,利用光进行照射以固化所述压印材料,并且将所述模具与所述固化的压印材料分离,从而在所述基板上形成图案,所述压印装置包括:
供给单元,其包括排出所述压印材料的排出口,并且被构造为将所述压印材料供给到所述基板上;
生成单元,其被构造为通过软X射线对远离包括所述模具与所述基板之间的压印位置的空间的空间的照射,来生成离子;以及
气体供给单元,其被构造为向远离包括所述压印位置的空间的空间供给气体,使得通过气体将离子供给到包括所述压印位置的空间,
其中,所述排出口和所述生成单元被布置为夹着所述模具的侧面,并且
所述排出口被布置在所述软X射线不直接照射的位置。
2.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述软X射线不直接照射的位置为被构造为保持所述模具的保持部件遮蔽从所述生成单元发射至所述排出口的软X射线的位置。
3.根据权利要求1所述的压印装置,其中所述生成单元的所述软X射线的射出口朝准斜下方。
4.根据权利要求1所述的压印装置,所述压印装置还包括被构造为遮蔽从所述生成单元发射至所述排出口的软X射线的遮蔽件。
5.根据权利要求4所述的压印装置,其中,所述供给单元包括形成有所述排出口的排出头,并且
所述遮蔽件是从形成有所述排出头的所述排出口的表面向所述基板侧突出并且围绕所述排出口的部分。
6.根据权利要求4所述的压印装置,其中,所述遮蔽件是包括在所述供给单元中并能够覆盖所述排出口的盖构件。
7.根据权利要求1所述的压印装置,所述压印装置还包括被构造为保持所述基板的可移动台;
其中,所述台包括盖构件,所述盖构件能够以在所述台位于在水平方向上远离所述压印位置的状态下,覆盖所述排出口。
8.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述供给单元包括连接到所述排出口并且被构造为供给所述压印材料的供给管,并且
所述供给管被形成以遮蔽所述软X射线。
9.根据权利要求8所述的压印装置,其中,所述供给管由厚度不小于1mm的树脂和厚度不小于0.1mm的金属中的一个构成。
10.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述排出口被布置在所述软X射线的照射角的外侧。
11.根据权利要求1所述的压印装置,其中,通过将所述离子供给至所述压印位置,来进行针对所述模具去除电荷以及针对所述固化的压印材料去除电荷中的至少一个。
12.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述气体供给单元包括过滤器,并且所述气体供给单元经由所述过滤器将气体供给至所述包括压印位置的空间。
13.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述包括压印位置的空间是在被构造为保持所述模具的保持部件的下方的空间。
14.一种制造物品的方法,该方法包括:
使用根据权利要求1至13中的任一项所述的压印装置,在基板上形成图案;以及
对形成有所述图案的所述基板进行处理。
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