[发明专利]彩膜基板的制作方法、彩膜基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201410737568.1 申请日: 2014-12-04
公开(公告)号: CN104360534B 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 武延兵 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 腾一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,其特征在于,包括背光模组、偏光结构、阵列基板、液晶层以及彩膜基板;

所述彩膜基板,包括衬底基板、形成在所述衬底基板上的黑矩阵和彩色滤光层,所述衬底基板上还形成有半透半反射层,所述半透半反射层位于所述黑矩阵朝向所述衬底基板的一侧;

所述偏光结构包括位于所述背光模组与所述阵列基板之间的下偏光片以及位于所述彩膜基板远离所述液晶层一侧的透明基板,所述透明基板与所述彩膜基板的夹角为30度~90度。

2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述透明基板为多个,所述多个透明基板相互平行的设置在所述彩膜基板上。

3.根据权利要求1或2所述的显示装置,其特征在于,所述半透半反射层包括与所述黑矩阵正对的第一区域以及与所述彩色滤光层正对的第二区域,所述第一区域的光反射率大于所述第二区域的光反射率。

4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述半透半反射层为反射薄膜,所述反射薄膜的光反射率随自身厚度的减小而变小,光透射率随自身厚度的减小而变大,位于所述第一区域的反射薄膜的厚度大于所述第二区域的反射薄膜的厚度。

5.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述第一区域的反射薄膜的厚度为所述第二区域的反射薄膜的厚度为

6.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述半透半反射层的第二区域形成有开孔结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410737568.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top